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ケイ素
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有機ケイ素化合物の新しい合成法を開発 −単純な有機ホウ素触媒で環境にやさしく効率的に− <要旨> 理化学研究所(理研)侯有機金属化学研究室の侯召民(コウ・ショウミン)主任研究員、馬元■(◇)(マ・ユアンホン)特別研究員、王保力(ワン・バオリ)特別研究員、張亮(チャン・リャン)研究員の研究チームは、「芳香族ケイ素化合物[1]」を、単純な「有機ホウ素化合物」のみを触媒[2]として効率的に合成する、新しい手法の開発に成功しました。本手法は金属やその他の添加剤を一切使用しない、環境にやさしい省資源型の反応です。 ◇特別研究員の正式表記は添付の関連資料を参照 芳香族ケイ素化合物は、...
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九大など、アルケンのヒドロシリル化用鉄・コバルト触媒の開発に成功
アルケンのヒドロシリル化用鉄・コバルト触媒の開発に成功 〜工業的にシリコーン製造に用いられている白金触媒を汎用金属で代替、資源問題に貢献〜 九州大学 先導物質化学研究所の永島 英夫 教授の研究チームは、工業的なシリコーン製造の鍵反応とされる、アルケンのヒドロシリル化 注1)反応に活性を持つ、貴金属を含まない新触媒 注2)の開発に成功しました。従来用いられている稀少資源で高価な白金触媒を、安価な非貴金属触媒で代替する、「元素代替」を実現した研究成果です。この研究成果を受けて平成28年2月より1年間、九州大学と信越化学工業株式会社は産学共同で本触媒の本格的な実用化検討に入ります...
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パテント・リザルト、SiCパワー半導体デバイスについての参入企業に関する調査結果を発表
SiCパワー半導体デバイス、特許総合力トップ3はCREE、デンソー、パナソニック 経営分析、競合調査、特許分析の株式会社パテント・リザルトはこのほど、SiCパワー半導体デバイスについて、参入企業に関する調査結果をまとめました。従来から使われているシリコン(Si)によるパワー半導体デバイスは、耐圧が理論限界値に近付いており、これ以上の改善は難しいとされています。そのため、絶縁破壊電圧が高いSiC(炭化ケイ素)やGaN(窒化ガリウム)といったワイドバンドギャップ型半導体が注目されており、これらの材料を用いたパワー半導体デバイスは、Siと比較して、より損失を抑えることが可能にな...
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IHI回転機械、台湾にスラリーリサイクルシステムのサービス拠点を設立
台湾にスラリーリサイクルシステムのサービス拠点を設立 IHIの関係会社である株式会社IHI回転機械(社長:榊 純一、本社:東京都江東区、以下、ICM)は、太陽電池用シリコンウエハーメーカーなど向けにスラリーリサイクルシステム(製造工程で使用したスラリーを回収、遠心分離機で固液分離し再利用を可能にするシステム)を国内外で販売していますが、このたび、海外でも特に納入実績が豊富な台湾において、本システムのサービス拠点となる合弁会社「石川島科技股■有限公司」を設立し、2月17日に営業を開始しました。 ※■印の文字は人偏に「分」の文字です 新会社は、スラリーリサイクルシステムの現...
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信越化学、2月1日出荷分からシリコーン樹脂製品の販売価格を値上げ
シリコーン樹脂製品の値上げについて 信越化学工業株式会社(本社:東京、社長:森 俊三)は、主要製品の一つであるシリコーン樹脂製品について、2011年2月1日出荷分より、全製品を対象に国内外で最大15%の値上げを実施する。 シリコーン樹脂製品の主原料である金属ケイ素の需要は、半導体、太陽電池向けなどで拡大しており、今後も需給の逼迫が続くことが予想され、さらなる高騰が見込まれている。また、レアメタルやメタノールなどの原料価格の上昇にも直面しており、今後も騰勢が見込まれている。さらに、原油価格の高騰で、重油、ガソリンなどの製造用エネルギーのコストも上昇を続けている。 当社では...
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東レ・ダウコーニング、「Dow Corning」ブランドのクリーン表面コーティング材をラインアップ
指紋付着低減性、汚れ拭き取り性、耐摩耗性に優れた Dow Corning(R) ブランド Clean Surface Coating材料をラインアップ 東レ・ダウコーニング株式会社(本社:東京都千代田区/代表取締役社長・COO:大志万 俊夫)は、ガラス、プラスチック、金属、フィルムなどの基材表面の汚れ防止に適した、Dow Corning(R) ブランド、クリーン表面コーティング材(Clean Surface Coating材料)をラインアップします。今回紹介するのは、液状タイプDow Corning(R) 2634 Coating(以下、2634と表記)とペレット状の無溶剤...