次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化 マルチ電子ビームマスク描画装置を導入して描画時間を大幅に短縮 　大日本印刷株式会社（本社：東京　社長：北島義俊　資本金：１，１４４億円　以下：DNP）は、半導体用フォトマスクの製造において描画時間を大幅に短縮することが可能なマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し、次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化します。 【次世代最先端半導体製造の課題】 　現在の半導体は、十数ナノメートル（nm）の回路パターンを３次元（３D）構造でシリコンウェハに形成するなど微細化が進んでいます。半導体の製造は、フォトリソグラフィ技術を使用していますが、光の波長など...