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リソグラフ
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DIC、半導体製造の次世代プロセス「ナノインプリント技術」に対応したレジスト用樹脂を開発
DIC 半導体製造の次世代プロセス『ナノインプリント技術』に対応したレジスト用樹脂を開発 DIC株式会社(本社:東京都中央区、社長執行役員:中西義之)は、半導体製造の次世代プロセスとして有望なナノインプリント技術(NIL)に対応したレジスト用樹脂を開発しました。 同開発品は、長年培った当社独自の合成技術を駆使した有機無機ハイブリッド樹脂をベースとしており、数年前より大手デバイスメーカー向けにサンプルワークを実施し、実用化に向け高い評価を得ています。 スマートフォンなど様々な電子機器の小型化、高機能化を実現するため、内蔵する半導体集積回路は微細化による高集積化が進められてきました。こ...
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次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化 マルチ電子ビームマスク描画装置を導入して描画時間を大幅に短縮 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、半導体用フォトマスクの製造において描画時間を大幅に短縮することが可能なマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し、次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化します。 【次世代最先端半導体製造の課題】 現在の半導体は、十数ナノメートル(nm)の回路パターンを3次元(3D)構造でシリコンウェハに形成するなど微細化が進んでいます。半導体の製造は、フォトリソグラフィ技術を使用していますが、光の波長など...
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ナノアンテナで発光波長の精密制御 低損失な光メタマテリアルで可能に <概要> 金森義明(東北大学大学院工学研究科 准教授)、森竹勇斗(現・理化学研究所 研究員)、羽根一博(東北大学大学院工学研究科 教授)の研究グループは、ナノアンテナとして人工光学物質メタマテリアル(1)を用いて量子ドットの発光波長を精密に制御する技術を開発しました。 本研究グループは、光の波長より小さな金属構造で構成される人工光学物質メタマテリアルに注目し、非対称型ダブルバー(ADB)メタマテリアル(2)を開発しました。周期450nmで二次元配列されたADBメタマテリアル・アレイ上に配置された量子ドットからの発光は、...
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理想科学、生産性・操作性など大幅向上の高速デジタル印刷機4機種を発売
−生産性・画像性・操作性を大幅に向上− デジタル印刷機「RISOGRAPH SFシリーズ」4機種を新発売 孔版インクでは世界初、ライスインク同時発売 理想科学工業株式会社(社長:羽山 明、以下、理想科学)は、高速デジタル印刷機「RISOGRAPH SFシリーズ」(リソグラフ エスエフシリーズ)4機種を平成28年8月25日(木)から発売いたします。 「リソグラフSFシリーズ」は従来のスタンダードモデルと比較し、生産性・画像性・操作性の基本性能を大幅に向上しました。ベースエンジンをリニューアルし、デザインも一新。より最適な多枚数プリント環境を提供します。 「リソグラフSFシリーズ」は、従来シリーズと比較し毎分最...
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JSRとimec、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社を設立
JSRとimec、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社を設立 JSR株式会社(本社:東京都港区、社長:小柴満信)とナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関であるimec(本社:ベルギー、CEO:Luc Van den hove)は、合弁会社「EUV Resist Manufacturing&Qualification Center N.V.(EUV RMQC)」を設立しました。EUV RMQCは、2015年5月12日に調印した基本合意書(LOI:Letter of Intent)に基づき、JSR100%出資のグループ企業 JSR Micro N.V.が過半を出資し設立したもので、EUVリソグラフィ材料の製造・品質管理サービスを提供します。 EUV(極端紫外線)リソグラフィ技術は、「ムーアの法則」で表される半導体の微細化・...
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日立と日立金属、微細な配線層を形成した低温同時焼成セラミックパッケージ基板を開発
情報処理装置のデータ処理能力を10倍以上向上する セラミックパッケージ基板を開発 シリコンインターポーザを搭載した基板と比較して高信頼かつ低コストを実現 株式会社日立製作所(執行役社長兼COO:東原 敏昭/以下、日立)と日立金属株式会社(執行役社長:高橋 秀明(◇)/以下、日立金属)は、配線幅、配線間隔がそれぞれ2μm(*1)と微細な配線層を形成した低温同時焼成セラミック(Low Temperature Co−fired Ceramic 以下、LTCC)(*2)パッケージ基板を開発しました。本LTCCパッケージ基板上にLSIとメモリを搭載してその間を1,000本以上の配線で接続することにより、現状のパッケージ基板(*3)と比較し、1...
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光学/透明部品・材料の世界市場を調査 ―2019年世界市場予測(2014年比)― ●自動車用中間膜 1,781億円(35.6%増) 遮音膜、遮熱膜など高機能化が進む。ヘッドアップディスプレイ用も登場。 総合マーケティングビジネスの株式会社富士経済(東京都中央区日本橋小伝馬町 社長 清口 正夫 03−3664−5811)は、様々な産業分野で採用される中で、用途の広さからガラスや樹脂などが競合する光学/透明部品・材料の世界市場を調査した。その結果を報告書「2015年 光学/透明部品・材料市場の現状と将来展望」にまとめた。この報告書では、自動車、レンズ、エレクトロニクス、レーザー・...
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富士フイルムなど、フォトレジスト技術でフルカラー有機発光ダイオードの動作実証に成功
富士フイルムとimec 有機半導体用フォトレジスト技術を用いて フルカラーの有機発光ダイオードを作製し、動作実証に成功 富士フイルム株式会社(社長:中嶋 成博)と、ナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関であるimec(CEO:Luc Van den hove)は、両社が開発した、サブミクロンオーダー(※1)のパターン形成が可能な有機半導体用フォトレジスト技術(※2)を用いて、フルカラーの有機発光ダイオード(OLED)(※3)を作製し、その動作実証に成功しました。本研究成果は、有機ELディスプレイの高精細化や大型化、さらには従来に比べコスト優位性のある製造方法の確立につながる画期的なものです。 有機ELディス...
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ナノインプリント技術を用いた半導体製造装置を開発 キヤノンは、解像力10nm(※1)台の高度な微細加工を実現するナノインプリント技術を用いた、次世代半導体製造装置の開発を進めています。 ※1 1nm(ナノメートル)は、10億分の1メートル。 *製品画像は添付の関連資料を参照 EUV(※2)を用いた次世代半導体露光装置が先端微細加工領域において主流とされるなか、キヤノンは、解像力10nm台の高度な微細加工を実現するナノインプリント技術の研究を2004年より続けてきました。特に2009年以降、同技術を用いた次世代半導体製造装置の量産を目指し、大手半導体メーカーやCanon Nanotechnologies,Inc....
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液晶の電場配向に対する閉じ込め効果を初観測 −空間の狭さで液晶の特性が変わるメカニズムを解明− 東北大学原子分子材料科学高等研究機構の栗原和枝教授の研究グループは、独自に開発した共振ずり測定法(*1)を駆使し、基板の間の距離約13nm以下の空間に閉じ込められた液晶は、電場により分子の向きを変えることが出来なくなることを見いだしました。 液晶ディスプレーは、2枚の基板が液晶分子を挟んでできた素子から構成されており、一定方向に並んでいる(配向している)液晶分子の向きを、電場を用いて変えることで表示を制御しています。本研究グループでは、基板表面間の距離を連続的に変えながら表面間の液...
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大日本スクリーン、サインディスプレー向け大サイズUVインクジェット印刷機を開発
サインディスプレー向け大サイズUVインクジェット印刷機を開発 〜当社グループのシナジー効果で、世界的なビジネス展開を加速〜 大日本スクリーン製造株式会社はこのほど、グループ企業である英国のインカ・デジタル・プリンターズ社(以下、インカ社)と、両社が長年培ったコア技術を融合することによって、大サイズUVインクジェット印刷機「Truepress Jet W3200UV」を開発しました。この装置の販売を2013年10月から開始し、需要が旺盛なサインディスプレー市場を中心に世界的なビジネス展開を加速させます。 ※製品画像は、添付の関連資料を参照 近年、消費者の嗜好(しこう)の多様化に伴い、商品のライフサイ...
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産総研、光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法を開発
光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法の開発 −新しい微細金属パターンの形成技術− 【ポイント】 ・プラスチック基板上のめっき膜にパルス光を照射するだけで密着性が向上 ・マイクロ秒単位の短時間で大面積(A4サイズ)の処理が可能 ・フォトマスク上から光照射することで、めっきした金属薄膜のパターニングが可能 <概要> 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 野間口 有】(以下「産総研」という)ナノシステム研究部門【研究部門長 山口 智彦】ナノシステム計測グループ 堀内 伸 上級主任研究員らは、無電解めっきによりプラスチック基材上に形成した金属薄膜に高強度のパルス...
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東北大、新考案のミラー光学系でEUVリソグラフィ用マスクの高分解能観察に成功
新考案のミラー光学系でEUVリソグラフィ用 マスクの高分解能観察に成功 −新しい顕微鏡開発で16nm世代リソグラフィの実現に貢献− <概要> 東北大学多元物質科学研究所・豊田光紀助教らの研究グループは、独自に開発した多層膜ミラー光学系による顕微鏡により、16nm世代用のEUVリソグラフィ用マスクを高い空間分解能で観測することに成功しました。波長13.5nmの短波長の極端紫外線(EUV:Extreme Ultraviolet)を用いて、半導体ウエハ上に微細回路パターンを焼き付けるEUVリソグラフィでは、回路パターンの原盤に、Mo/Si多層膜ミラーを用いた反射型マスクが用いられます。反射型マスクの開発では、マスク上に存在する微細欠陥...
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レーザーテック、検査性能を大幅に向上させた高速マスク欠陥検査装置を発売
新製品 マスク欠陥検査装置 「MATRICS X810シリーズ」を発表 【概要】 レーザーテックはデザインノード20nm以降の最先端半導体デバイス用フォトマスク、およびEUVマスクに対応した高速マスク欠陥検査装置「MATRICS X810シリーズ」を製品化し、11月より受注を開始します。 【背景】 レーザーテックは、1976年よりフォトマスク欠陥検査装置を開発・販売し,本分野で長い歴史と経験を持つ会社です。現在販売中のMATRICS X700&X700HiTシリーズは、そのすぐれた欠陥検出性能、低ランニングコスト、および高い可用性により、高い評価をいただき、日本、韓国、台湾...
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パテント・リザルト、「機械・造船業界 特許資産の規模ランキング」を発表
【機械・造船】特許資産規模ランキング、トップ3は三菱重工、ダイキン、クボタ 弊社はこのほど、独自に分類した「機械・造船」業界の企業を対象に、各社が保有する特許資産を質と量の両面から総合評価した「機械・造船業界 特許資産の規模ランキング」をまとめました。2011年4月1日から2012年3月末までの1年間に登録された特許を対象に、個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」を用いた評価を行い、企業ごとに総合得点を集計しました。このランキングにより、件数比較では見られない、特許総合力の評価が可能になります。 その結果、1位 三菱重工、2位 ダイキン、3位 クボタとなりました...
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JSTと東北大、バイオテンプレート極限加工で高密度の量子ドットを作成し発光に成功
バイオテンプレート極限加工により損傷がなく10倍高密度の量子ドットを作製して、発光に成功 −高速通信用量子ドットレーザーの実現に前進− <ポイント> >従来の自己組織的な結晶成長では量子ドットサイズや密度の制御が困難。 >画期的な加工技術を開発して、高密度で配置・サイズ制御された無欠陥量子ドットを実現。 JST 課題達成型基礎研究の一環として、東北大学 流体科学研究所(兼 原子分子材料科学高等研究機構)の寒川 誠二 教授らは、トップダウン加工でガリウムヒ素の高密度・無欠陥の量子ドット(注1)を作製し、その量子ドットからの直接発光を確認しました。 量子ドットは、ナノメートル...
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大日本印刷、フレキシブルガラスを用いたカラーフィルター製造技術を開発
世界初 フレキシブルガラスを用いたカラーフィルター製造プロセスを開発 フレキシブルディスプレーへ向けてロール・ツー・ロールの効率生産にめど ※以下の画像資料は、添付の関連資料を参照 ・ロール状に巻き取られたカラーフィルター ・製作したカラーフィルターの拡大図 ・曲げた状態のカラーフィルター 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、フレキシブルなガラスをロール・ツー・ロールプロセス(ロール状に巻かれた基材への連続的な製造プロセス)に用いたカラーフィルター製造技術を世界で初めて開発しました。今後さらに開発を進め、...
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理想科学、エコモード搭載で環境性能を強化したデジタル印刷機を発売
−エコモードを搭載し環境性能を強化− 『RISOGRAPH SD5630/SD5430/SD5430L』を発売 理想科学工業株式会社(社長:羽山 明)は、デジタル印刷機・RISOGRAPH SDシリーズの新機種『RISOGRAPH SD5630/SD5430/SD5430L』(リソグラフ エスディー5630/リソグラフ エスディー5430/リソグラフ エスディー5430エル)を平成24年5月17日(木) から発売いたします。 『RISOGRAPH SD5630/SD5430/5430L』は、環境性能を強化した新機種です。 全機種新たに「エコモード」を搭載し、印刷時の消費電...
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産総研、微細な溝に閉じ込めた液晶が作り出す新たな配向構造を発見
微細な溝に閉じ込めた液晶が作り出す新たな配向構造 −溝の方向に沿って左右に折れ曲がるジグザグ状の欠陥構造− <ポイント> ・しわ状の微細な溝にネマチック液晶を閉じ込めると周期的な配向構造を形成 ・配向構造の周期的な特異点にシリカ微粒子を捕捉し、周期的に配列することが可能 ・微小物体のパターニングや捕捉操作、光学素子への応用展開に期待 <概要> 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 野間口 有】(以下「産総研」という)ナノシステム研究部門【研究部門長 八瀬 清志】ソフトメカニクスグループ 大園 拓哉 研究グループ長とソフトマターモデリンググループ【研究グループ長 米谷 慎...
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東京エレクトロン、CEA-LetiのEBマスクレスリソグラフィのプログラムに参加
東京エレクトロン、CEA-LetiのEBマスクレスリソグラフィのプログラムに参加 東京エレクトロン株式会社(本社:東京都港区)とCEA-Leti(本部:フランス グルノーブル)は、CEA-Letiの電子線(EB)マスクレスリソグラフィの共同開発プログラム「IMAGINE Program」に東京エレクトロンが参加することに合意したことを発表いたします。 「IMAGINE Program」は、MAPPER社(オランダ)が開発する高スループットのEBマスクレスリソグラフィ技術の開発・導入を支援する共同開発プログラムです。 「EBマスクレスリソグラフィは、半導体の微細パターンを形成する次世代技術の候補です。東京エレクトロンは、装置メーカーとして、次世代の有望な技術に積極的に取...
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ニコン、ストリームラインプラットフォーム採用の「ArF液浸スキャナー『NSR−S621D』」を発売
ストリームラインプラットフォーム採用の超高精度・超高スループット最新型液浸露光装置 ニコン ArF液浸スキャナー「NSR−S621D」を発売 株式会社ニコン(社長:木村 眞琴、東京都千代田区)は、最新型ArF液浸スキャナー「NSR−S621D」の販売を2012年1月から開始しました。この新型露光機は、既に定評のあるNSR−S620Dの精度や生産性をさらに向上させ、22ナノメートルプロセス量産用(ダブルパターニング適応(*1))に開発された装置であり、今後の主力商品として拡販に努めます。 *1 ダブルパターニング:1つの回路パターンを、現行の液浸露光機で転写できる2つの密集...
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ウシオ電機、「パワーデバイス」「MEMS」「3次元実装」向けリソグラフィ装置3機種を発表
「パワーデバイス」「MEMS」「3次元実装」向け、リソグラフィ装置3機種を発表 −ウェハ一括プロジェクション方式により、CoOを削減− ウシオ電機株式会社(本社:東京都、代表取締役社長 菅田 史朗、以下 ウシオ)は、自社のモジュラー型一括プロジェクション装置「UX4シリーズ(※1)」の最新機種として、MPAマスク(※2)がそのまま使用できるパワーデバイス製造用「UX4−ECO FFPL150」、重ね合わせ精度0.5μmの性能を持ち、新開発の焦点深度最大500μmのレンズ・モジュールや、多品種生産対応のオート・マスクチェンジャー・モジュールを搭載したMEMS製造用「UX4−M...
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ウシオ電機、子会社エクストリームがウシオ製EUV光源が中間集光点出力30Wを達成
ウシオ製EUV光源、中間集光点出力30Wを達成 ― 国際会議で発表 ― ウシオ電機株式会社(本社:東京都、代表取締役社長:菅田 史朗、以下 ウシオ)の100%子会社であるエクストリームテクノロジーズ(XTREME technologies GmbH 本社:ドイツ・アーヘン、社長:マーク・コートアウトMarc Corthout、以下、エクストリーム)は、量産化対応に必須であるDuty Cycle(デューティサイクル)100%の条件下で、中間集光点出力30Wを達成したことを、リソグラフィー技術に関する国際会議「2011 International Symposia on Ext...
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産総研とイオックスなど、インクジェット方式による低抵抗な超微細銅配線を実現
インクジェット方式による低抵抗な超微細銅配線の達成 −携帯電話やICタグに利用される、次世代IC基板や超小型プリント基板などへ展開− (独)新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の委託事業において、(株)SIJテクノロジ、(株)イオックス、日本特殊陶業(株)、(地独)大阪市立工業研究所、(独)産業技術総合研究所は、インクジェット方式による直接描画および極低酸素還元技術を用いて、線幅5μm、配線抵抗率8.1μΩ・cmの超微細配線形成を実現した。将来的には、携帯電話やICタグに利用される、次世代IC基板や超小型プリント基板などへ展開が期待できる。 ◇成果のポイント ・ナ...
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EUV光源で磁場によるデブリ除去技術を実証 2012年出荷開始予定のEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進 ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、 http://www.gigaphoton.com/ )は、2012年初旬に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。ギガフォトンは2002年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、磁場を使ったデブリ除去を初めとするユニークな方式を提案してきました。今回の発表は、これまで検証を積み重ねてきた磁場...
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負の屈折現象を生み出す逆進的な光の流れ解明 −フィッシュネット型メタマテリアル内部における直接的な光の伝搬解析に初めて成功− 独立行政法人物質・材料研究機構(理事長:潮田 資勝)の先端フォトニクス材料ユニット(ユニット長:迫田 和彰)の岩長 祐伸 主任研究員は可視から近赤外の光領域で最も注目されているフィッシュネット型メタマテリアルについて理論的な光の伝搬解析を行い、負の屈折現象を可能にする逆進的な光の流れを初めて解明しました。この成果により、これまで有効誘電率・透磁率モデルによって説明されてきたメタマテリアルにおける負の屈折現象を直接的、定量的に理解することが可能になりま...
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JSR、EUV向けレジストで10ナノメートル世代向けのLSパターン加工に成功
JSR、EUV向けレジストで、10ナノメートル世代向けのLS(ライン&スペース)パターン加工成功 〜周辺多層材料も含む総合的な材料開発促進〜 JSR株式会社(社長:小柴満信)は、10ナノメートル世代以降の半導体デバイス生産に向けて、EUV(Extra Ultra Violet:遠紫外線)リソグラフィ用の材料開発を進めています。今回、EUV用フォトレジスト(感光性樹脂)と当社の塗布型ハードマスク材料(多層材料)の組み合わせによって、10ナノメートル世代に向けたEUVレジストとして現時点で必要とされている解像度や感度の性能が、トップクラスであることを確認しました。また、塗布型ハ...
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大日本印刷、次世代半導体量産技術の確立に向けナノインプリント用のテンプレート複製装置を導入
次世代半導体量産技術の確立に向けて 米モレキュラーインプリント社のナノインプリント用テンプレート複製装置を導入 商品画像:テンプレート複製装置「PERFECTA(TM)MR5000」 ※添付の関連資料を参照 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円、以下:DNP)は、米国のモレキュラーインプリント(Molecular Imprints,Inc.本社:米国テキサス州 CEO:Mark Melliar−Smith 以下:MII)のナノインプリント用の型(テンプレート)のレプリカ(複製)を製造する装置「PERFECTA(TM)MR5000」を業界に先...
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理想科学、モノクロレーザープリンター「Prioa LP6970DN/LP2020D」を発売
経済性に優れたモノクロレーザープリンターの最新機種 『Prioa LP6970DN/LP2020D』を発売 ◆理想科学工業株式会社(社長:羽山 明)は、モノクロレーザープリンター「Prioa LPシリーズ」(プリオア エルピーシリーズ)の最新機種『Prioa LP6970DN』と『Prioa LP2020D』を平成22年12月24日(金)から発売いたします。 ◆A3判対応の『Prioa LP6970DN』とA4判対応の『Prioa LP2020D』は、従来機種同様1枚1円(*1)の低ランニングコストで出力できる経済性に優れたレーザープリンターです。 さらに両機種とも「R...
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ウシオ電機製EUV光源、欧州研究機関に採用― ―新工場開所式で公表― ウシオ電機株式会社(本社:東京都、代表取締役社長:菅田 史朗、以下 ウシオ)の100%子会社であるエクストリームテクノロジーズ(XTREME technologies GmbH 本社:ドイツ・アーヘン、社長:マーク・コートアウトMarc Corthout、以下、エクストリーム)製のDPP方式(*1)EUV光源(*2)を、このたび欧州の独立国際研究機関IMEC(*3)(Interuniversity Microelectronics Centre:ベルギー)が採用することが公表されましたので、お知らせします...
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理化学研究所、ナノギャップ構造の「金二重ナノピラー配列」をウェハーサイズで作製
ナノギャップ構造の「金二重ナノピラー配列」をウェハーサイズで初作製 −高感度フレキシブルプラズモンセンサーへの展開に期待− ◇ポイント◇ ・精密なナノギャップ構造体をウェハーサイズの基板上で大量・均一に作製 ・プラズモンセンサー能力指数が23と一桁も向上、世界トップレベルに ・高感度・簡易フレキシブルセンサーチップへの展開が期待 独立行政法人理化学研究所(野依良治理事長)は、金の二重膜を円筒状に自立させ、膜のすき間(ギャップ)をナノメートルサイズで精密に制御した「金二重ナノピラー」(ストロー状の中空円筒構造体)を、数センチメートル四方にわたって大量かつ均一に基板上に配列させる技...
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日立など4社、1平方インチ当たり3.9兆個のドットが規則的に配列された超微細パターンを形成
1平方インチ当たり3.9兆個のドットが規則的に配列された 超微細パターンを形成 −高分子材料の自己組織化現象を活用した超高密度ナノパターニング技術を開発− NEDOおよび国立大学法人東京工業大学(学長:伊賀 健一/以下、東工大)、国立大学法人京都大学(総長:松本 紘/以下、京大)、株式会社日立製作所(執行役社長:中西 宏明/以下、日立)は、HDDの記録密度を大幅に向上する「ビットパターンメディア」(*)へ適用する要素技術として、一平方インチ当たり3.9兆個のドットが規則的に配列された超微細パターンを形成することに成功しました。 今回開発した超高密度ナノパターニング技術を「ビ...
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理想科学、デジタル印刷機の新製品「RISOGRAPH SDシリーズ」5機種を発売
−全機種に毎分180枚の高速プリントモードを搭載− 「RISOGRAPH SDシリーズ」を発売 ◆理想科学工業株式会社(社長:羽山 明)は、デジタル印刷機の新製品「RISOGRAPH SD シリーズ」(リソグラフ エスディーシリーズ)5機種を平成22年10月28日(木)から発売いたします。 ◆「RISOGRAPH SDシリーズ」は、全機種に高速プリントモードを搭載。毎分最高180枚のスピードで大量の印刷物も短時間で仕上がります。上位モデルの『RISOGRAPH SD6680F』と『RISOGRAPH SD6680』は600dpiの高解像度で、高画質マスターとの組み合わせにより...