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レーザーテック、高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置を発表

2012-08-06

新製品 高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置
CLIOS G821を発表



【概要】
 この度レーザーテックは、スマートフォンタブレット端末などの高精細液晶ディスプレイ生産用に特化した高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置 CLIOS(クリオス)G821を発表致します。


【内容】
 レーザーテックは、第8世代用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置の業界標準機として既に定評のある51MDを大幅に進化させた高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置CLIOS G821を製品化し、今月より受注を開始いたします。
 スマートフォンに代表される高精細ディスプレイや新映像フォーマットの4K2K高解像度テレビへの対応で、液晶用フォトマスクのパターンは微細化が急速に進展し、ハーフトーンマスクやグレートーンマスクの普及と併せて高度化が一層加速しています。
 生産現場においてもこのような高度化したフォトマスクの欠陥検査を可能とする、より高い検出感度を持った検査装置の登場が強く求められております。
 レーザーテックでは、こうした新たな検査ニーズに対応すべく新開発の光学系、ステージ機構、及び検出回路で、高感度欠陥検査と高スループットを実現した新製品CLIOS G821を製品化いたしました。


【特長】
 ・短波長光源及び専用設計の対物レンズを含む最新の光学系採用により、画像解像度を大幅に向上し、高い検出感度を実現(最高検出感度0.35μm。当社従来モデル0.75μm)
 ・新システムの開発により、データベース検査の分解能と展開処理能力を大幅に向上し、Die to Die検査と同等の性能を発揮
 ・独自のアルゴリズムによるデータベースのプロファイルマッチング機能により、最適なデータベース画像を自動生成
 ・新型TDIセンサー、高速化した処理系、及びダブルデータベース検査(オプション)等により、検査時間も短縮
 ・レビュー専用顕微鏡を装備し、フルカラーでのレビューを実現
 ・装置内でのペリクル貼り付けも可能(オプション)


※製品画像は添付の関連資料を参照


【用途】
 ・高精細液晶用大型フォトマスクの出荷前品質検査
 ・高精細液晶用大型フォトマスクの受入検査および
 ・定期的な品質検査


【主な仕様】
 ・検査面:フォトマスクのパターン面
 ・マスクサイズ:800mm(W)×520mm(H)〜1,500mm(W)×1,300mm(H)、6〜13mm(t)
  (マスクアダプタの使用により、800×520以下のサイズにも対応可能)
 ・検出感度:0.35μm(対物レンズ:20倍、速度:Slow)
  (検査モード:Die to Die/Die to Database時)
 ・単位面積当り検査時間:0.76秒/cm2(対物レンズ20倍、速度:Fast)
  (検査モード:Die to Die/Die to Database時)
 ・データベース:最小0.1μm(描画単位)
 ・本体外形寸法:5,000mm(W)×1,800mm(D)×2,600mm(H)
 ・重量:約7,000Kg


【本体標準価格】
 8億円(オプション類は別途承ります)


【年間販売目標】
 初年度3〜4台


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