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ニコン、ストリームラインプラットフォーム採用の「ArF液浸スキャナー『NSR−S621D』」を発売

2012-02-06

ストリームラインプラットフォーム採用の超高精度・超高スループット最新型液浸露光装置
ニコン ArF液浸スキャナー「NSR−S621D」を発売



 株式会社ニコン(社長:木村 眞琴、東京都千代田区)は、最新型ArF液浸スキャナー「NSR−S621D」の販売を2012年1月から開始しました。この新型露光機は、既に定評のあるNSR−S620Dの精度や生産性をさらに向上させ、22ナノメートルプロセス量産用(ダブルパターニング適応(*1))に開発された装置であり、今後の主力商品として拡販に努めます。

 *1 ダブルパターニング:1つの回路パターンを、現行の液浸露光機で転写できる2つの密集度の低いパターンに分割露光し、この2つのパターンを組み合わせて、最終的に密集度を高めることを可能とする手法。


●概要
 商品名:ArF液浸スキャナー「NSR−S621D」
 販売開始時期:2012年1月より


●開発の背景
 IT革命の根幹を担う超LSIの高集積化・微細化が進み、半導体業界では20ナノメートル世代プロセスのデバイス開発・生産に移行しています。リソグラフィ分野においては、引き続き液浸露光装置によるダブルパターニング技術が有力とされており、重ね合わせ精度とスループットの大幅な向上が求められます。
 NSR−S621Dは、NSR−S620D(*2)で既に定評のあるストリームライン プラットォーム(Streamlign Platform)を採用しつつ、ハード及びソフト両面からさらなる改良を加えることにより、重ね合わせ精度2ナノメートル以下、スループット毎時200枚以上、という極めて高い精度と生産性を実現し、お客様の生産ラインにおいて最適かつ効率的なソリューションを提供します。

 *2 参考:従来機NSR−S620Dの重ね合わせ精度は3ナノメートル以下、スループットは毎時180枚以上。


ストリームラインプラットフォーム(Streamlign Platform)の主な特長>

1、重ね合わせ精度の大幅な向上を実現する新干渉計システム:バーズアイ・コントロール(Bird’s Eye Control)
 エンコーダを利用し、空気揺らぎの影響を受けずにステージの位置を計測し、従来の干渉計計測とのハイブリッドなシステムを構成。重ね合わせ精度を大きく向上しました。

2、スループットの大幅な向上を実現する新計測技術:ストリームアライメント(Stream Alignment)
 FIAの5眼化(*3)により、短時間でのアライメント計測を可能にしました。5眼化の効果により、全ショットに近い多点計測時でもスループット低下を最小限に抑えます。

 *3 FIAの5眼化:アライメント顕微鏡を従来の1眼タイプから5眼化(5連装タイプ)にしたこと。

3、メンテナンス性向上のための新モジュール構造:モジュラースクエアード・ストラクチャー(Modular2 Structure)
 階層的なモジュール化を実現する事により、お客様先での立ち上げ時間を短縮し、さらに部品交換も平易化しました。そのため、メンテナンス性が大幅に向上しました。


●「NSR−S621D」の主な性能

 ※添付の関連資料を参照


※製品画像は、添付の関連資料を参照


●お客様の問い合わせ先:
 株式会社ニコン 精機カンパニー 企画部経営企画課 03−3216−1344

 ニコンホームページ:http://www.nikon.co.jp/

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