東京エレクトロン、CEA-LetiのEBマスクレスリソグラフィのプログラムに参加

東京エレクトロン、CEA-LetiのEBマスクレスリソグラフィのプログラムに参加


東京エレクトロン株式会社（本社:東京都港区）とCEA-Leti（本部：フランス グルノーブル）は、CEA-Letiの電子線（EB）マスクレスリソグラフィの共同開発プログラム「IMAGINE Program」に東京エレクトロンが参加することに合意したことを発表いたします。

「IMAGINE Program」は、MAPPER社（オランダ）が開発する高スループットのEBマスクレスリソグラフィ技術の開発・導入を支援する共同開発プログラムです。

「EBマスクレスリソグラフィは、半導体の微細パターンを形成する次世代技術の候補です。東京エレクトロンは、装置メーカーとして、次世代の有望な技術に積極的に取り組んでいます。今回、EBマスクレスリソグラフィ技術の最先端の研究で実績があるCEA-Letiとの協業を通じて、次世代パターニングソリューションが進展することを期待しています」と東京エレクトロン執行役員CTBU GMの西垣寿彦はコメントしています。

CEA-Letiプログラムマネージャーであるサージ・テデスコ氏は、次のように話しています。「CEA-Letiはこれまで、マイクロエレクトロニクスの分野で東京エレクトロンと関係を持ってきました。今回、東京エレクトロンがEBマスクレスリソグラフィの開発プログラムに参加することは、次世代の先端ノードに向けて、このリソグラフィソリューションが進展していることを示す力強いシグナルだと言えます。コータ／デベロッパで世界シェア1位の東京エレクトロンの参加により、プログラムの枠組みで行われる次世代リソグラフィソリューション開発の価値が高まるでしょう」


CEA-Letiについて
CEAは、研究と科学技術に関するフランスの公的機関で、エネルギー、情報技術、ヘルスケア技術、保安防衛の4つの主要な分野で活動を行っている。CEAの枠組みの中で、エレクトロニクス＆情報技術の研究所（CEA-Leti）は、技術革新と技術移転を通じて企業の競争力を高めるために、複数の企業と連携している。CEA-Letiはマイクロ・ナノテクノロジーとその応用に注力している。たとえば、ワイヤレスデバイスシステムから、バイオ、ヘルスケアや光通信などである。中でもナノエレクトロニクスとマイクロシステム（MEMS）はその活動の中核をなしている。CEA-Letiは、MINATECキャンパスにあり、その主役として、200 nmと300 nmのウェーハ向けに、週7日24時間体制で8,000m²の最先端クリーンルームを運営している。CEA-Letiには1400名の従業員がおり、190人以上のPh.Dコースの学生を教育し、パートナー企業からおよそ200名のアサイニーを受け入れている。CEA-Letiは、産業界の価値を創生することを使命としているため、知的財産（IP）に重点を置いており、1700以上の特許群を所有している。
CEA-Leti ウェブサイト：　http://www.leti.fr<http://www.leti.fr/>