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表面張力
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ライオン子会社と大林組、シールド工事用の高性能起泡剤を共同開発
シールド工事用の高性能起泡剤「レオフォームOL−１０」を共同開発 〜低濃度の起泡剤で高粘性の気泡を生成し地山を掘削〜 ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社（本社：東京都墨田区、社長：千葉 弘之）と株式会社大林組（本社：東京都港区、社長：白石 達）は、高発泡性能・低環境負荷型の気泡シールド工法用起泡剤「レオフォームOL−１０」を共同開発しました。 気泡シールド工法は、切羽に微細なシェービングクリーム状の気泡を注入しながら地山を掘削する工法で、大林組が中心となって開発しました。本工法は粘性土から砂質土・礫質土に至る地質の変化への適応性が高く、気泡生成設備がコンパクトでトンネ...
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帝人フロンティアなど、「クールマジック」から撥水性に優れる機能傘を発売
蓮の葉構造を傘地に再現！ 撥水性に優れる機能傘を発売 国内大手洋傘メーカーの株式会社シューズセレクション（ http://www.water-front.co.jp/ ）（本社：東京都目黒区、社長：林 秀信）と帝人フロンティア株式会社（ http://www2.teijin-frontier.com/ ）（本社：大阪市中央区、社長：竹中 哲嗣）は、高い撥水性を実現する新しい傘地素材「ウォーターバリア」、およびこの素材を使用したオールウェザーアンブレラを共同開発し、シューズセレクションが展開する機能傘ブランド「クールマジック」の新ラインナップとして発売することとしました。２月下旬より、シューズセレクションが運営する世界最大級の傘専門店「Cool Magic SHU’S」（所在地...
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パテント・リザルト、クレンジング・メイク落とし関連技術の特許総合力ランキングを発表
クレンジング・メイク落とし関連技術 特許総合力ランキング トップ３は花王、資生堂、LOREAL（仏） 弊社はこのほど、日本に出願されたクレンジング・メイク落とし関連技術について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用い、参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。 本調査では、化粧品に含まれる顔料など油性の基材を除去するクレンジング・メイク落としの関連技術について、１９９３年から２０１４年５月末までに日本の特許庁で公開された特許１，５８０件を対象としています。特許の質と量から総合的に参入企業の競争力を見た「特許総合力ランキング（注１）」を集計した結果、１位 花王、２位...
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１９世紀以来の謎、ホフマイスター効果の新しいメカニズムを提案 −界面の水構造に及ぼす対イオンの効果を実験的に解明− ＜ポイント＞ ・独自に開発した最先端の分光計測法により界面の水構造を直接観察 ・陽イオンのホフマイスター系列は界面の水の水素結合強度の序列と一致 ・陽イオンと陰イオンではホフマイスター系列発現メカニズムが異なる ＜要旨＞ 理化学研究所（理研、野依良治理事長）は、独自に開発した表面・界面に存在する分子を選択的に計測できる最先端の分光計測法を用いて、広い分野で重要とされているホフマイスター系列［１］の発現メカニズムについてモデル界面を用いて調べました。その結果、陽...
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トクヤマ、種々の金属部品洗浄等に対応した高機能洗浄溶剤を発売
高機能洗浄溶剤を新発売 〜洗浄力と乾燥性が特長 ２０１４年２月に発売を開始〜 株式会社トクヤマ（本部：東京都千代田区 社長：幸後和壽）は、種々の金属部品洗浄等に対応した高機能洗浄溶剤を開発し、２０１４年２月３日に新発売いたします。 新規に開発した高機能洗浄溶剤は、金属洗浄剤メタクレンで培ったノウハウを活かせる洗浄溶剤として、下記の特長を有しております。 ＜本製品の特長＞ ・高い洗浄性と優れた乾燥性を持つ。 ・低温蒸気乾燥により被洗浄物への熱的ダメージが少ない。 ・引火点がなく、消防法の適用を受けない。 ・表面張力が小さいため、微細な隙間に対しての洗浄精度が高い。 ・共沸...
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肺の機能維持に寄与する転写因子の同定 ―遺伝子発現システムの破綻による肺胞蛋白症の発症― 【概要】 東北大学大学院医学系研究科 細胞生物学講座生物化学分野の五十嵐和彦教授と内科病態学講座呼吸器病態学分野の貫和敏博名誉教授の共同グループは、肺の恒常性維持に必須の遺伝子発現システムを発見し、その異常が肺胞蛋白症の発症に関わることを見いだしました。 人を含む多くの生物において、肺から空気中の酸素を取り込む機能を支えているのが、肺に存在する肺胞サーファクタントという物質です。しかし、この肺胞サーファクタントが過剰に溜まると、呼吸困難などを症状とする肺胞蛋白症という病気になります。研...
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東京エレクトロン、回路パターン倒壊を従来の10分の1以下にする洗浄装置を開発
次世代乾燥技術を用いて回路パターン倒壊を従来の10分の1以下にする洗浄装置を開発 東京エレクトロン株式会社（東京都港区、社長：東哲郎）は、半導体製造における洗浄・乾燥工程で高アスペクト回路パターンの倒壊を従来の10分の1以下に低減する装置の開発に成功したことをお知らせします。次世代乾燥技術（モノレイヤードライ）を搭載した最先端デバイス向け枚葉洗浄装置「CELLESTATM -i」は、2014年1月に販売を開始する予定です。 半導体製造において、洗浄後の乾燥工程では、現在主に液体の表面張力が純水の約3分の1であるIPA（イソプロピルアルコール）を使用した乾燥技術が用いられています。しかし、半導体デバイスの微細化...