信越化学、台湾にフォトレジスト関連製品の新工場を建設、リスク分散を実現  信越化学工業株式会社(本社:東京、社長:森俊三)は、フォトレジスト関連事業の拡大をめざし、台湾に工場を新設する。現在、台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は1年程度、投資金額は約130億円を見込む。  フォトレジストは、半導体デバイスの製造に欠かせない感光性の樹脂。シリコンウエハーにレーザー光などの光を照射し、集積回路を焼き付ける露光工程で使われる。  信越化学は、1991年に新規事業を創出する目的で金川千尋会長(当時は社長)を委員長とする「Z委員会」を設置。同委員会...