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ムーアの法則
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JSRとimec、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社を設立
JSRとimec、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社を設立 JSR株式会社(本社:東京都港区、社長:小柴満信)とナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関であるimec(本社:ベルギー、CEO:Luc Van den hove)は、合弁会社「EUV Resist Manufacturing&Qualification Center N.V.(EUV RMQC)」を設立しました。EUV RMQCは、2015年5月12日に調印した基本合意書(LOI:Letter of Intent)に基づき、JSR100%出資のグループ企業 JSR Micro N.V.が過半を出資し設立したもので、EUVリソグラフィ材料の製造・品質管理サービスを提供します。 EUV(極端紫外線)リソグラフィ技術は、「ムーアの法則」で表される半導体の微細化・...
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米アルテラ、TSMC社とCoWoS統合プロセスを採用したヘテロジニアス 3D ICのテスト用デバイスを共同開発
アルテラとTSMC、CoWoS(TM) プロセスを採用した世界初の ヘテロジニアス 3D ICのテスト用デバイスを共同開発 ・アルテラ、次世代3Dデバイスの開発に、TSMCのCoWoS製造およびアセンブリ・プロセスを採用 アルテラ・コーポレーション(本社:米国カリフォルニア州サンノゼ、社長、CEO 兼会長:ジョン・デイナ、日本法人:東京都新宿区西新宿、代表取締役社長:日隈 寛和、NASDAQ:ALTR、以下、アルテラ)とTSMC(本社:台湾新竹、NYSE:TSM)は、米国時間3月22日、TSMCのCoWoS(Chip on Wafer on Substrate、チップ・オン...
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EUV光源で磁場によるデブリ除去技術を実証 2012年出荷開始予定のEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進 ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、 http://www.gigaphoton.com/ )は、2012年初旬に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。ギガフォトンは2002年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、磁場を使ったデブリ除去を初めとするユニークな方式を提案してきました。今回の発表は、これまで検証を積み重ねてきた磁場...