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多重露光
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次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化 マルチ電子ビームマスク描画装置を導入して描画時間を大幅に短縮 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、半導体用フォトマスクの製造において描画時間を大幅に短縮することが可能なマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し、次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化します。 【次世代最先端半導体製造の課題】 現在の半導体は、十数ナノメートル(nm)の回路パターンを3次元(3D)構造でシリコンウェハに形成するなど微細化が進んでいます。半導体の製造は、フォトリソグラフィ技術を使用していますが、光の波長など...
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パナソニック、CMOSイメージセンサー向け高機能グローバルシャッタ技術を開発
非常に明るいシーンでも高速に変化する被写体を正確に捉えるとともに、動き方向の検出も可能に 従来比約10倍(*1)の明るさまで忠実に画像を撮像できる 有機薄膜を用いたCMOSイメージセンサ向け高機能グローバルシャッタ技術を開発 【要旨】 パナソニック株式会社は、有機薄膜(*2)を用いたCMOSイメージセンサにおいて、従来に比べ約10倍(*1)の明るさまで忠実に画像を撮像できるグローバルシャッタ[1]技術を開発しました。光電変換[2]を行う有機薄膜と、信号の電荷蓄積を行う回路部を独立に設計可能な構造上の特長を生かし、これまでグローバルシャッタ機能で制約されていた飽和信号量[3]を拡大させ、明...