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DIC、半導体製造の次世代プロセス「ナノインプリント技術」に対応したレジスト用樹脂を開発
DIC 半導体製造の次世代プロセス『ナノインプリント技術』に対応したレジスト用樹脂を開発 DIC株式会社(本社:東京都中央区、社長執行役員:中西義之)は、半導体製造の次世代プロセスとして有望なナノインプリント技術(NIL)に対応したレジスト用樹脂を開発しました。 同開発品は、長年培った当社独自の合成技術を駆使した有機無機ハイブリッド樹脂をベースとしており、数年前より大手デバイスメーカー向けにサンプルワークを実施し、実用化に向け高い評価を得ています。 スマートフォンなど様々な電子機器の小型化、高機能化を実現するため、内蔵する半導体集積回路は微細化による高集積化が進められてきました。こ...
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産総研、生体への影響が懸念されるフッ素系ガスにのみ応答する検知技術を開発
生体への影響が懸念されるフッ素系ガスにのみ応答する検知技術を開発 −バタフライ型の有機窒素化合物が、二重結合を持つガス成分を敏感に検知する− <ポイント> ・エッチング用のフッ素系ガス成分にのみ応答する高感度なガス漏洩検知器を開発 ・単結合のみからなるパーフルオロカーボンなど冷媒用のフッ素系液体の蒸気には応答しない検知剤を搭載 ・生体への影響が懸念される他のハロゲン系ガスの漏洩検知への展開も期待 <概要> 国立研究開発法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】(以下「産総研」という)ナノ材料研究部門【研究部門長 佐々木 毅】ナノ粒子機能設計グループ 中村 徹 主任研究員...
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プラチナ万年筆、富士五湖シリーズ「#3776センチュリー 河口」万年筆を限定発売
富士五湖シリーズ万年筆、最終作「河口」を限定発売。 シリーズ完結モデルは細部にまでこだわりが詰まった1本。 夜明けを待つ河口湖の情景をイメージした 「#3776センチュリー 河口」 プラチナ万年筆株式会社(本社;東京 社長;中田俊也)では、富士五湖シリーズ最終作、「#3776センチュリー河口」万年筆を世界限定2.500本にて2016年7月1日より発売します。 「乾かない万年筆」として富士五湖の「本栖」を皮切りに「精進」、「西」、「山中」と限定モデルを発売してきました。この度、その最後のモデルとして「河口」を発売します。「夜明けを待つ河口湖」をイメージの中心において、静寂の中に...
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産総研、棒状やリボン状に形状制御されたナノ炭素材料の新しい合成法を開発
棒状やリボン状に形状制御されたナノ炭素材料の新しい合成法を開発 −高効率で量産可能な製造方法を開発− ■ポイント ・配位高分子からカーボンナノロッドとグラフェンナノリボンを合成 ・極めて高い効率で大きなスケールでの生産が可能に ・次世代のキャパシターの電極材料など、高効率なエネルギー貯蔵・変換への寄与に期待 ■概要 国立研究開発法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】(以下「産総研」という)電池技術研究部門( https://unit.aist.go.jp/riecen/ )【研究部門長 谷本 一美】エネルギー材料研究グループ 徐 強 上級主任研究員とプラディープ パッチファルJSPS特別研究員らは、配位高分子を原...
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HARIO、コーヒー粉と水だけで作る「コールドブリューコーヒージャグ&ピッチャー」を発売
この夏、コールドブリューをはじめよう。 コーヒー粉と水だけで作る、シンプルな味わいをスタイリッシュに。 HARIO「コールドブリューコーヒージャグ&ピッチャー」新登場。 今、ニューヨークでは「COLD BREW COFFEE(コールドブリューコーヒー)」が大人気! カフェのメニューをはじめ、店頭でもビン詰めのコールドブリューコーヒーが並んでいる。コールドブリューコーヒーとは、熱を加えずにじっくりと水で抽出したコーヒーのこと。コールドブリューコーヒーに含まれるカフェインやクロロゲン酸が体脂肪燃焼を促進し、健康増進の面でも注目を浴びている。 そもそも、このコールドブリューコーヒーこそ、HARIOが長年、提案し...
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高純度三塩化ホウ素の製造拠点増強を決定 −液晶パネルの需要拡大に対応− 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、電子材料製造用特殊ガスのひとつである高純度三塩化ホウ素(BCl3)の生産能力を従来の1.5倍に引き上げることを決定しました。 高純度BCl3は、液晶パネルやシリコン半導体の製造工程において、アルミ配線の微細加工(エッチング)に使用される特殊ガスです。近年、アルミ配線を使用する有機EL(OLED)パネルや低温ポリシリコン(LTPS)液晶パネルへの投資が相次いでおり、今後も安定的な需要が予想されることから、今回、川崎事業所の製造設備の増強を決定し、本年3月に稼働を開始します。 当社の電...
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鉄系超伝導体の新たな極薄膜化技術の確立 −極薄膜の物性解明への貢献が期待− 【発表のポイント】 ●電気化学反応を利用した「エッチング法」により、鉄系超伝導体の極薄膜化を実現 ●電界効果と組み合わせて、約40K(=−233°C)における高温超伝導転移を単原子層0.6nmから数nmまでの広い厚さ領域で発現させることに初めて成功 ●極薄膜にすることで現れる未知の性質の発見や原子層レベル極薄膜開発への貢献が期待 【概要】 東北大学金属材料研究所の塩貝純一助教、伊藤恭太大学院生、三橋駿貴大学院生、野島勉准教授、塚崎敦(◇)教授らの研究グループは、鉄とセレンからなる層状の超伝導(※1)物質であ...
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ペルノ・リカール・ジャパン、スコッチウイスキー「シーバスリーガル アイコン」を限定発売
「シーバスリーガル」より、新時代のラグジュアリーウイスキーの象徴 『シーバスリーガル アイコン』 2015年12月より、いよいよ日本に限定登場!! ペルノ・リカール・ジャパン株式会社(本社:東京都文京区 代表取締役社長:ティム・ペック)が展開するスコッチウイスキー「シーバスリーガル」では、新時代のラグジュアリーの象徴となる特別なウイスキー『シーバスリーガルアイコン』を2015年12月から限定発売いたします。(12月1日(火)から出荷開始。) 1909年に初のラグジュアリーウイスキーとして誕生以来、「シーバスリーガル」は世界中のウイスキーの象徴=アイコンとして地位を確立してい...
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東北大、超低損傷・中性粒子ビーム技術で高品質AlOx/GeOx/Geゲートスタック構造を作製
超低損傷・低温中性粒子ビーム酸化プロセス技術による 高品質AlOx/GeOx/Geゲートスタック構造の実現 【概要】 東北大学原子分子材料科学高等研究機構(AIMR)および流体科学研究所(IFS)の寒川誠二教授のグループは、独自技術である超低損傷・中性粒子ビーム技術を用いて「界面準位(*1)が10 11cm-2eV-1以下の高品質な界面を持ったAlOx/GeOx/Geゲートスタック構造」を作製することに成功しました。 半導体産業においては世界的な競争のもと、新材料の導入や微細化研究が盛んです。特にMOSトランジスタは半導体産業の最大の牽引車であり、国際競争を勝ち抜くために、その高性能化の研究は極めて重要です。集積回路の高性能化に...
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富士フイルムなど、フォトレジスト技術でフルカラー有機発光ダイオードの動作実証に成功
富士フイルムとimec 有機半導体用フォトレジスト技術を用いて フルカラーの有機発光ダイオードを作製し、動作実証に成功 富士フイルム株式会社(社長:中嶋 成博)と、ナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関であるimec(CEO:Luc Van den hove)は、両社が開発した、サブミクロンオーダー(※1)のパターン形成が可能な有機半導体用フォトレジスト技術(※2)を用いて、フルカラーの有機発光ダイオード(OLED)(※3)を作製し、その動作実証に成功しました。本研究成果は、有機ELディスプレイの高精細化や大型化、さらには従来に比べコスト優位性のある製造方法の確立につながる画期的なものです。 有機ELディス...
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凸版印刷、銅配線と高剛性樹脂カバー採用の超狭額縁銅タッチパネルモジュールを開発
凸版印刷、超狭額縁銅タッチパネルモジュールを開発 〜銅配線と高剛性樹脂カバーの採用により狭額縁化・軽量化を実現〜 凸版印刷株式会社(本社:東京都千代田区、代表取締役社長:金子眞吾、以下 凸版印刷)は、銅配線と曲げや衝撃に強い高剛性樹脂カバーの採用により、表示画面サイズはそのままに製品の小型化などデザインの自由度を高め、大幅な軽量化も可能とする超狭額縁銅タッチパネルモジュールを開発しました。主にタブレットやノートパソコン向けに、2015年7月中旬からサンプル出荷を開始します。 本製品は、タッチセンサーフィルムの電極材に低抵抗な銅を使用することで片側引き出し配線を可能とし、配...
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大日本印刷、高性能な「静電容量式タッチパネル用電極フィルム」を提供開始
高性能な静電容量式タッチパネル用電極フィルムの量産を専用ラインで開始 業界最細線の銅メッシュ線幅2μm品の開発も完了 ※参考画像は添付の関連資料を参照 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、高性能な静電容量式タッチパネル用電極フィルムに関して、2014年10月ノートパソコンなど中小型ディスプレー向け製品専用ラインでの量産を開始しました。2015年春にはデジタルサイネージ(電子看板)、電子黒板など需要が拡大している大型製品向けに最大85インチまでの量産に対応した供給体制が完了します。 また、視認性の点から市場で強い要望のあったメ...
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ダイヤモンドウエハーの低欠陥コピー技術を実証 −ダイヤモンドパワーデバイスによる省エネルギー社会実現へ道を拓く− <ポイント> ・ダイレクトウエハー化によるダイヤモンドウエハーの低欠陥コピー技術を実証 ・原理的に同等の結晶性をもつ高品質ウエハーの大量製造が可能 ・パワーエレクトロニクス用材料としての実用化による省エネルギー社会実現へ道を拓く <概要> 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】(以下「産総研」という)ユビキタスエネルギー研究部門( https://unit.aist.go.jp/ubiqen/ )【研究部門長 谷本 一美】ダイヤモンドデバイス化研究グループ 杢野 由明 研究グループ長、加...
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日立マクセル、超臨界ナノ分散技術を用いたナイロン樹脂めっき用「マスターバッチ材料」を開発
クロム酸前処理を不要とし、環境に配慮した ナイロン樹脂めっき用「マスターバッチ材料」を開発 〜マクセル独自の超臨界ナノ分散技術を応用〜 日立マクセル株式会社(取締役社長:千歳 喜弘/以下、マクセル)は、京都大学・大嶋正裕教授の協力のもと、マクセル独自の超臨界ナノ分散技術を用い、ナイロン樹脂めっきに必要なパラジウム触媒を微分散させた「マスターバッチ材料」と「無電界めっきプロセス」を開発しました。 このプロセスでは、従来の樹脂めっきでは必要であったエッチング工程が不要となり、クロム酸等の前処理なしにナイロン樹脂成形品の表面に密着力に優れたニッケル・リン無電界めっき膜を形成するこ...
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東芝、サンディスクと共同で四日市工場に3Dメモリー工場の新棟を建設
東芝が四日市工場第2棟を建て替え ―東芝・サンディスク共同での設備投資を合意― 東芝は、三次元構造のNAND型フラッシュメモリ(3Dメモリ)の専用設備を設置する拡張スペースを確保するために、四日市工場の第2棟を建て替えます。今月から解体・撤去作業を開始し、9月に起工、2015年夏に竣工する予定です。2015年度後半以降、2Dメモリから3Dメモリへの切り替えを目指します。 東芝とサンディスクは共同で設備投資を実施する覚書に合意し、東芝が旧建屋解体・撤去・新建屋建築を担当し、東芝・サンディスクの両社共同で製造設備を導入する計画です。 なお、両社ともに具体的な設備導入・生産開始時期や生産...
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浜松ホトニクス、MOEMS対応製品開発・量産拠点の本社工場新13棟が完成
固体事業部のMOEMS対応製品開発、量産拠点 本社工場、新13棟完成 竣工式は5月14日 当社は、光半導体素子を扱う固体事業部のMOEMS技術を中心とした車載用や携帯端末機器向け光半導体素子やモジュール製品の開発と量産体制を整えるため、本社工場新13棟を建設していましたが、この度完成し、9月から稼動を開始します。竣工式は5月14日に執り行います。 <MOEMS対応製品開発の概要> 当社は、先端光技術の開発に取り組み、医療、産業、環境をはじめとする様々な分野に、光半導体素子を供給してきました。顧客や市場からは、さらなる高性能化、高機能化、小型化、低価格化の要求が高まっています。 当社では、約10...
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凸版印刷、高性能な銅タッチパネルモジュールの量産を開始 〜モバイル端末から電子黒板まで幅広いアプリケーションのタッチパネルへ展開可能〜 凸版印刷株式会社(本社:東京都千代田区、代表取締役社長:金子眞吾、以下 凸版印刷)は、スマートフォンなどで現在主流となっている静電容量型タッチパネル向けに、超微細な銅配線のパターンを形成したタッチパネルモジュールを開発、世界で初めて量産可能な生産体制を構築しました。 パソコンやタブレット端末などの10インチから27インチクラスをターゲットに2013年11月中旬より提供を開始します。 開発した銅タッチパネルモジュールは、国内の銅メッシュで最...
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島津製作所、広波長帯域で高回折効率を実現したレーザー用回折格子を発売
広波長帯域において高回折効率を実現したレーザ用回折格子を発売 −外部共振器やパルス制御に最適− ※製品画像は添付の関連資料を参照 島津製作所は、レーザシステム向けの構成部品に適した高効率の平面回折格子を、10月16日に新発売します。また、本製品を「インターオプト2013」(10月16日〜18日、パシフィコ横浜)に出展します。 回折格子は、種々の波長が混ざった光(白色光)を波長ごとに分ける光学素子で、基板表面に1mmあたり数百〜数千本の格子溝が規則正しく配列された構造をしています。さまざまな波長が混じっている光から特定の波長の光だけを取り出すためのキーデバイスとして、幅広い業...
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東北大、中性粒子ビーム加工技術を用い無欠陥エッジ構造を持つグラフェンナノリボンを作製
超低損傷中性粒子ビーム加工プロセス技術により世界で初めて 欠陥のないエッジ構造をもつグラフェンナノリボンを実現 =超高速グラフェンナノデバイスの製造プロセスを提案= 【研究概要】 東北大学 原子分子材料科学高等研究機構(AIMR)および流体科学研究所(IFS)の寒川誠二教授の研究グループは、寒川教授が独自に提案した中性粒子ビーム加工技術を用いてグラフェンシートに損傷を与えず、無欠陥エッジ構造を持つグラフェンナノリボンを作製し、世界で初めて10の4乗以上の高いOn/OFF比をもつ電気特性を実現いたしました。 シリコンに代わる次世代トランジスタ材料として注目されるグラフェン(注1)ですが、シー...
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産総研、光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法を開発
光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法の開発 −新しい微細金属パターンの形成技術− 【ポイント】 ・プラスチック基板上のめっき膜にパルス光を照射するだけで密着性が向上 ・マイクロ秒単位の短時間で大面積(A4サイズ)の処理が可能 ・フォトマスク上から光照射することで、めっきした金属薄膜のパターニングが可能 <概要> 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 野間口 有】(以下「産総研」という)ナノシステム研究部門【研究部門長 山口 智彦】ナノシステム計測グループ 堀内 伸 上級主任研究員らは、無電解めっきによりプラスチック基材上に形成した金属薄膜に高強度のパルス...
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キャスコ、「ウイルソンスタッフ」よりグローバルモデルクラブを発売
ウイルソンスタッフ 2013 プロが認めたグローバルモデルクラブ発売 ゴルフ用品総合メーカーのキャスコ株式会社(香川県さぬき市 代表取締役社長:高橋芳彦)は、ウイルソンスタッフより驚きの飛びを生む「D−100」シーリーズ、トッププロのあらゆるショットに応える精密ウェッジ「FG TOUR TC」、視覚でアドレスを導く「VIZOUR BLADE」のグローバルモデル クラブを2月14日(木)より順次発売いたします。 ※商品画像は添付の関連資料を参照 ■D−100 DRIVER&WOODS&IRON 2013年2月14日発売 最大飛距離を求め続けるウイルソンスタッフのDシリーズの最新モデル。D−100は、優しく振り切れることで、ヘ...
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昭和電工など、自由にパターン形成が可能な電子回路形成用導電性インクを開発
電子回路形成用導電性インクを開発 − 印刷可能な銀ナノワイヤーインクおよび銅・銀ハイブリッドタイプ − 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、国立大学法人 大阪大学(以下、大阪大学)の菅沼克昭教授と共同で、印刷により自由にパターン形成が可能な銀ナノワイヤーインクを開発いたしました。この銀ナノワイヤーインクに光焼成技術(Photonic Curing(TM))を組み合わせることにより、高い安定性を持つ透明導電パターンをフレキシブルなフィルム上に形成することが可能となります。 銀ナノワイヤーインクは、透明でシート抵抗(*)の低い導電膜を形成できることから、タッチパネル等の透...
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高効率・大型乾式の温暖化ガス分解装置「HB−3000」を製品化 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、水処理工程が不要な乾式のハイブリッドシステムにより、処理能力の増加とランニングコストの削減を実現するPFC分解装置「HB−3000」の開発を完了し、2012年中に販売を開始いたします。 液晶パネルや半導体のエッチング工程で使用されるPFC(パーフルオロカーボン)は、地球温暖化係数の高い温室効果ガスであり、使用後排出の際に分解処理する必要があります。分解方法には化学反応方式と触媒方式がありますが、ハイブリッドシステムを採用した本製品は両方式の利点を融合したものです。 化...
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日立ハイテク、米オレゴン州に顧客対応力強化などでプロセスエンジニアリングセンタを設立
米国にプロセスエンジニアリングセンタを設立 ―顧客サポート力強化によりプロセス装置ビジネスを拡大― 株式会社日立ハイテクノロジーズ(執行役社長:久田眞佐男/以下、日立ハイテク)は、半導体プロセス装置事業における海外顧客サポート体制の強化を目的に、米国オレゴン州ポートランド近郊にプロセスエンジニアリングセンタを設立することを決定しました。 日立ハイテクの100%子会社である日立ハイテクノロジーズアメリカ会社(社長:宮崎正啓/本社:イリノイ州シカゴ)が運営する解析ラボを拡張し、クリーンルームを新設。設計・デモラボ機能などを備え、総床面積は約3,800m2、総投資額は約24億円...
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JSTと東北大、バイオテンプレート極限加工で高密度の量子ドットを作成し発光に成功
バイオテンプレート極限加工により損傷がなく10倍高密度の量子ドットを作製して、発光に成功 −高速通信用量子ドットレーザーの実現に前進− <ポイント> >従来の自己組織的な結晶成長では量子ドットサイズや密度の制御が困難。 >画期的な加工技術を開発して、高密度で配置・サイズ制御された無欠陥量子ドットを実現。 JST 課題達成型基礎研究の一環として、東北大学 流体科学研究所(兼 原子分子材料科学高等研究機構)の寒川 誠二 教授らは、トップダウン加工でガリウムヒ素の高密度・無欠陥の量子ドット(注1)を作製し、その量子ドットからの直接発光を確認しました。 量子ドットは、ナノメートル...
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大日本印刷、フレキシブルガラスを用いたカラーフィルター製造技術を開発
世界初 フレキシブルガラスを用いたカラーフィルター製造プロセスを開発 フレキシブルディスプレーへ向けてロール・ツー・ロールの効率生産にめど ※以下の画像資料は、添付の関連資料を参照 ・ロール状に巻き取られたカラーフィルター ・製作したカラーフィルターの拡大図 ・曲げた状態のカラーフィルター 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、フレキシブルなガラスをロール・ツー・ロールプロセス(ロール状に巻かれた基材への連続的な製造プロセス)に用いたカラーフィルター製造技術を世界で初めて開発しました。今後さらに開発を進め、...
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NIMSとJST、新たな高機能性材料メソポーラス・プルシアンブルーの合成に成功
新たな高機能性材料メソポーラス・プルシアンブルーの合成に成功 〜表面積の増大によるセシウム吸着性能の向上〜 <概要> 1 独立行政法人 物質・材料研究機構(理事長:潮田 資勝、以下NIMS)は、無数のナノ細孔(メソポーラス)をプルシアンブルー(1)の結晶構造体中に形成させることに成功した。この研究成果は、NIMS 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点(拠点長:青野 正和)の山内 悠輔 独立研究者・Hu Ming 博士研究員らによって得られた。 2 プルシアンブルーは、ゼオライト(2)などの天然鉱物とならび高いセシウム(3)吸着能を有している。これまで、プルシアンブルーの吸着能向...
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東京エレクトロン、TSV用シリコン深堀エッチング装置「Tactras FAVIAS」など販売
東京エレクトロン、3次元積層技術の実用化を加速、新製品を投入 東京エレクトロン株式会社(東京都港区、社長:竹中博司)は、3次元積層技術の実用化の加速を目指し、TSV(※1)用シリコン深堀エッチング、ポリイミド(※2)成膜、ウェーハボンディング(仮貼り合わせ・接合)/デボンディング(剥離)の分野で5つの新製品を投入することをお知らせいたします。 近年、スマートフォンやタブレットPCなどの普及により、半導体はさらなる小型化や高機能化、省エネ化が求められています。そのため、半導体製造においては、微細化とならんで、それらの要求を可能にする、複数の半導体を縦方向に積み重ねる半導体3...
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東京エレクトロン、東北大学とスピントロニクスメモリーの集積化技術などで共同開発に合意
東北大学と東京エレクトロン、次世代デバイスの有力候補であるスピントロニクスメモリの集積化技術とその製造技術で共同開発に合意 東京エレクトロン株式会社(本社:東京都港区、社長:竹中博司)は、このたび東北大学 遠藤哲郎教授を研究代表者として、東北大学省エネルギー・スピントロニクス集積化システムセンター(所在地:宮城県仙台市、センター長:大野英男教授)と、スピントロニクスメモリの集積化技術とその製造技術に関する共同開発を開始することに合意しました。 スピントロニクスメモリは、低消費電力で書き込み速度が高速という特長を持つ不揮発性メモリであり、今後の省エネ電子機器のキーデバイスと...
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タミヤ、大型精密プラスチックモデル「タミヤ 1/350 艦船シリーズ 日本戦艦 大和」を発売
艦船模型の新たな可能性に挑む大型精密モデル 「1/350 戦艦大和」のプラスチックモデルを発売 プラスチックモデル、RC(ラジオコントロール)モデル、ミニ四駆など、ホビー商品の製造・販売を行う株式会社タミヤ(本社:静岡市駿河区 代表取締役社長:田宮昌行)は組立式プラスチックモデル「1/350艦船シリーズ」の新製品として「日本戦艦 大和」を2011年12月3日に発売いたします。 最新の考証を充分に検証し、1/350スケール・全長752mmの大型の艦体を、部品数1500を超えるパーツ構成、ディティールまで徹底したこだわりをもってモデル化。作る楽しさ、作り応え、再現度、精密感な...
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レーザーテック、Viaの底面形状や開口径を正確・迅速に測定する貫通電極検査装置を発表
新製品:貫通電極検査装置 (英文名:TSV Etching Depth and Profile Measurment System) 「WASAVI シリーズ TSV300S」を発表 【概要】 この度レーザーテック株式会社は、貫通電極形成プロセスのエッチング深さ、及びViaの底面形状を測定する「WASAVI シリーズ TSV300S」を発表致します。 ※WASAVI:WAfer Surface Analyzing and VIsualizing System 【説明】 現在、半導体デバイスのさらなる高密度、高速動作、低消費電力化を目指し、縦方向に回路を構築する3次元積層デバ...
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サッポロビール、ボンベイ・サファイア250周年記念ボトルを12月1日から限定販売
〜ボンベイ・サファイア250周年記念ボトル12月1日より限定販売開始〜 『BOMBAY SAPPHIRE 250th Limited Edition Bottle』 ※商品画像は添付の関連資料を参照 バカルディ ジャパン株式会社(住所:東京都渋谷区 代表取締役社長 皆川昌三)が取り扱う、世界No.1*プレミアムジンのボンベイ・サファイアがオリジナルレシピの誕生から250周年を迎えるにあたり、250周年記念ボトルを12月1日より限定発売します。 ボンベイ・サファイアはイギリス北部でトーマス・デイキンが1761年に作り出したオリジナルレシピに基づいて製造されています。250周...
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産総研とイオックスなど、インクジェット方式による低抵抗な超微細銅配線を実現
インクジェット方式による低抵抗な超微細銅配線の達成 −携帯電話やICタグに利用される、次世代IC基板や超小型プリント基板などへ展開− (独)新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の委託事業において、(株)SIJテクノロジ、(株)イオックス、日本特殊陶業(株)、(地独)大阪市立工業研究所、(独)産業技術総合研究所は、インクジェット方式による直接描画および極低酸素還元技術を用いて、線幅5μm、配線抵抗率8.1μΩ・cmの超微細配線形成を実現した。将来的には、携帯電話やICタグに利用される、次世代IC基板や超小型プリント基板などへ展開が期待できる。 ◇成果のポイント ・ナ...
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北海道大学、数ナノメートルの加工分解能を有する光リソグラフィー技術を開発
数ナノメートルの加工分解能を有する光リソグラフィ技術の開発に成功 <研究成果のポイント> ・ 髪の毛の細さの1000分の1倍程度の大きさの構造を,従来の技術よりも簡単な装置構成で,より精緻に加工できる技術を実現。 ・ 本技術は,従来の半導体加工向けの光リソグラフィで広く用いられているポジ型フォトレジストを使用可能。 ・ リフトオフやエッチングなどの既存の半導体加工プロセスと組み合わせることで,次世代太陽電池の集光システムへの応用や,種々のナノデバイスの作製に応用可能。 <研究成果の概要> 北海道大学電子科学研究所 上野貢生准教授及び三澤弘明教授らは,近赤外光を露光用光源と...
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JSTと大阪大学、中性子ビームを極めて高効率で集光させることができる楕円面スーパーミラーを開発
世界最高性能の中性子集光技術を確立 −中性子ビームの強度を50倍以上に増強するミラーの開発に成功− JST 研究成果展開事業【先端計測分析技術・機器開発プログラム】要素技術タイプの一環として、大阪大学 大学院工学研究科の山村 和也 准教授と日本原子力研究開発機構 J−PARCセンターの曽山 和彦 セクションリーダーらの開発チームは、中性子ビームを極めて高効率で集光させることができる楕円面スーパーミラー(注1)の開発に成功しました。この楕円面スーパーミラーを用いると、単位面積あたりの中性子ビームの照射強度が、ミラーを使用しない時と比較して50倍以上に増加します。 中性子は陽...
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昭和電工、8月1日納入分よりエレクトロニクス分野向けフッ素系高純度ガス価格を値上げ
エレクトロニクス分野向けフッ素系高純度ガスの価格改定について 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、半導体等のエレクトロニクス分野で使用されるフッ素系高純度ガスの価格改定を以下のとおり行うことを決定し、このたびお客様との交渉を開始いたします。 〔価格改定の内容〕 (1)対象製品:高純度FC−116(以下分子式、C2F6) 高純度FC−14 (以下分子式、CF4) (2)値上げ幅:それぞれ500円/KG (3)実施時期:2011年8月1日以降納入分より適用 C2F6は、半導体の製造において、シリコン基板の上を覆う薄膜を生成する際に、その工程で使われる製造設備...
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EUV光源で磁場によるデブリ除去技術を実証 2012年出荷開始予定のEUV露光用LPP光源の量産化計画が前進 ギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 渡辺裕司、 http://www.gigaphoton.com/ )は、2012年初旬に出荷を予定しているEUV露光用LPP光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。ギガフォトンは2002年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、磁場を使ったデブリ除去を初めとするユニークな方式を提案してきました。今回の発表は、これまで検証を積み重ねてきた磁場...
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産総研、固定砥粒方式でスライスした多結晶シリコン基板の表面テクスチャー形成技術を開発
多結晶シリコン太陽電池の新しい作製方法 −固定砥粒方式でスライスした基板を用いた低コスト表面テクスチャー形成技術− ポイント サンドブラスト処理と酸エッチング処理の組み合わせにより低反射率基板を作製 異なるスライス条件でも、最適な表面テクスチャー構造を形成できる 多結晶シリコン太陽電池の低価格化に期待 概要 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 野間口 有】(以下「産総研」という)太陽光発電工学研究センター【研究センター長 近藤 道雄】実用化加速チーム 高遠 秀尚 主任研究員、坂田 功 研究チーム長は、株式会社 ノリタケカンパニーリミテド【代表取締役 種村 均...
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JSR、EUV向けレジストで10ナノメートル世代向けのLSパターン加工に成功
JSR、EUV向けレジストで、10ナノメートル世代向けのLS(ライン&スペース)パターン加工成功 〜周辺多層材料も含む総合的な材料開発促進〜 JSR株式会社(社長:小柴満信)は、10ナノメートル世代以降の半導体デバイス生産に向けて、EUV(Extra Ultra Violet:遠紫外線)リソグラフィ用の材料開発を進めています。今回、EUV用フォトレジスト(感光性樹脂)と当社の塗布型ハードマスク材料(多層材料)の組み合わせによって、10ナノメートル世代に向けたEUVレジストとして現時点で必要とされている解像度や感度の性能が、トップクラスであることを確認しました。また、塗布型ハ...
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大日本印刷、次世代半導体量産技術の確立に向けナノインプリント用のテンプレート複製装置を導入
次世代半導体量産技術の確立に向けて 米モレキュラーインプリント社のナノインプリント用テンプレート複製装置を導入 商品画像:テンプレート複製装置「PERFECTA(TM)MR5000」 ※添付の関連資料を参照 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円、以下:DNP)は、米国のモレキュラーインプリント(Molecular Imprints,Inc.本社:米国テキサス州 CEO:Mark Melliar−Smith 以下:MII)のナノインプリント用の型(テンプレート)のレプリカ(複製)を製造する装置「PERFECTA(TM)MR5000」を業界に先...
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液晶パネル向け低環境負荷型高純度ガス設備の新設 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、このたび、液晶パネル向け低環境負荷型の高純度COF2(フッ化カルボニル)製造設備の建設を東長原事業所(福島県会津若松市)において開始いたしました。設備の年産能力は400トンで、2011年7月を目処に完工の予定です。 液晶パネルのガラス基板を加工する工程において、基板上に形成される薄い酸化膜や窒化膜等のエッチング(注1)には高純度のフッ素系ガスが使われます。COF2の地球温暖化係数の約1はほぼCO2と同じでありエッチング用ガスの代表例であるSF6(六フッ化硫黄)の同係数23,900と比較...
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理化学研究所、ナノギャップ構造の「金二重ナノピラー配列」をウェハーサイズで作製
ナノギャップ構造の「金二重ナノピラー配列」をウェハーサイズで初作製 −高感度フレキシブルプラズモンセンサーへの展開に期待− ◇ポイント◇ ・精密なナノギャップ構造体をウェハーサイズの基板上で大量・均一に作製 ・プラズモンセンサー能力指数が23と一桁も向上、世界トップレベルに ・高感度・簡易フレキシブルセンサーチップへの展開が期待 独立行政法人理化学研究所(野依良治理事長)は、金の二重膜を円筒状に自立させ、膜のすき間(ギャップ)をナノメートルサイズで精密に制御した「金二重ナノピラー」(ストロー状の中空円筒構造体)を、数センチメートル四方にわたって大量かつ均一に基板上に配列させる技...
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パナソニック、タイミングデバイスの小型化・低消費電力化に貢献する低電圧駆動MEMS共振器を開発
タイミングデバイスの小型化・低消費電力化に貢献 業界最高※Q値、低電圧駆動MEMS共振器を開発 ※2010年12月7日現在、当社調べ 【要 旨】 パナソニック株式会社はimec(ベルギー)[1]との共同開発により、振動部からのエネルギー損失が少ないねじり振動モード[2]で振動する単結晶シリコン(Si)の三角柱形状の振動部と、これをシリコンゲルマニウム(SiGe)薄膜で真空封止するウエハレベルパッケージ技術を開発することにより、業界最高Q値[3]、低電圧駆動を可能とするMEMS[4]共振器を実現しました。 【効 果】 本技術は、家電機器や車載機器など様々な機器で使用されるタイミ...
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富士経済、主要エネルギーデバイスの製造設備・装置の世界市場調査結果を発表
二次電池、太陽電池、燃料電池の製造設備・装置 主要エネルギーデバイス製造設備・装置の世界市場を調査 ―2015年予測― 製造装置市場は2009年比3.9倍の1兆4,529億円 総合マーケティングビジネスの株式会社富士経済(東京都中央区日本橋小伝馬町 社長 阿部 界 03−3664−5811)は、主要エネルギーデバイスの製造設備・装置の世界市場を調査した。その結果を報告書「エネルギーデバイス製造設備・装置市場実態総調査 2010」にまとめた。 この報告書では、二次電池はリチウムイオン二次電池(以下LIB)、電気二重層キャパシタ、太陽電池は結晶シリコン型太陽電池、薄膜シリコン型太...