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フォトマスク
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DIC、半導体製造の次世代プロセス「ナノインプリント技術」に対応したレジスト用樹脂を開発
DIC 半導体製造の次世代プロセス『ナノインプリント技術』に対応したレジスト用樹脂を開発 DIC株式会社(本社:東京都中央区、社長執行役員:中西義之)は、半導体製造の次世代プロセスとして有望なナノインプリント技術(NIL)に対応したレジスト用樹脂を開発しました。 同開発品は、長年培った当社独自の合成技術を駆使した有機無機ハイブリッド樹脂をベースとしており、数年前より大手デバイスメーカー向けにサンプルワークを実施し、実用化に向け高い評価を得ています。 スマートフォンなど様々な電子機器の小型化、高機能化を実現するため、内蔵する半導体集積回路は微細化による高集積化が進められてきました。こ...
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次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化 マルチ電子ビームマスク描画装置を導入して描画時間を大幅に短縮 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、半導体用フォトマスクの製造において描画時間を大幅に短縮することが可能なマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し、次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化します。 【次世代最先端半導体製造の課題】 現在の半導体は、十数ナノメートル(nm)の回路パターンを3次元(3D)構造でシリコンウェハに形成するなど微細化が進んでいます。半導体の製造は、フォトリソグラフィ技術を使用していますが、光の波長など...
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竹田印刷、東京プロセスサービスの株式取得に関する譲渡契約書を締結
東京プロセスサービス株式会社の株式取得に関する譲渡契約書締結のお知らせ 当社は、平成28年11月17日開催の取締役会において、平成28年8月10日に開示しました「東京プロセスサービス株式会社の株式の取得に関する基本合意締結のお知らせ」のとおり、東京プロセスサービス株式会社(本社:神奈川県藤沢市、代表取締役:太田 稔)の株式を取得し子会社とするため、株式譲渡契約を締結することについて決議しましたので、お知らせいたします。 1.株式の取得の目的 東京プロセスサービス株式会社は、スクリーンマスクを主体に、フォトマスク・メタルマスクなどスクリーン印刷用版の製造に加え、製版用機器・...
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凸版印刷、顔料などの色素を使わずに色を示す構造発色シートを開発
凸版印刷、生物模倣で新素材を開発 〜色素を使わず、ナノ構造が色を示すため、屋外でも褪色しない〜 凸版印刷株式会社(本社:東京都千代田区、代表取締役社長:金子眞吾、以下 凸版印刷)は、光の反射と散乱を制御するナノ構造設計技術と多層薄膜形成技術の融合によって、顔料や染料などの色素を使わずに、色を示す構造発色シート「モルフォシート」を開発しました。偽造防止やブランドプロテクションなどのセキュリティ商品や屋内外でのプロモーションツール向けの製品として、2017年度中の実用化を目指します。 構造発色シート「モルフォシート」は凸版印刷が培ったナノ構造をコントロールする技術により実現し...
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光学/透明部品・材料の世界市場を調査 ―2019年世界市場予測(2014年比)― ●自動車用中間膜 1,781億円(35.6%増) 遮音膜、遮熱膜など高機能化が進む。ヘッドアップディスプレイ用も登場。 総合マーケティングビジネスの株式会社富士経済(東京都中央区日本橋小伝馬町 社長 清口 正夫 03−3664−5811)は、様々な産業分野で採用される中で、用途の広さからガラスや樹脂などが競合する光学/透明部品・材料の世界市場を調査した。その結果を報告書「2015年 光学/透明部品・材料市場の現状と将来展望」にまとめた。この報告書では、自動車、レンズ、エレクトロニクス、レーザー・...
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産総研、リソグラフィーパターンを反映できる回路特性解析システムを開発
リソグラフィーパターンを反映できる回路特性解析システムを開発 −次世代大規模集積回路の設計に貢献− 【ポイント】 ・リソグラフィーシミュレーション結果などから、パターンの詳細形状を反映した回路特性解析が可能 ・フィンFET特有のSRAM回路のパターン形状の影響を解明 ・製造プロセス〜回路特性を一貫してシミュレーションすることでLSIの製造工程を最適化 <概要> 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】(以下「産総研」という)ナノエレクトロニクス研究部門( http://unit.aist.go.jp/neri/ )【研究部門長 金丸 正剛】ナノスケール計測・プロセス技術研究グループ 福田 浩一 主任研究員らは、...
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産総研、光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法を開発
光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法の開発 −新しい微細金属パターンの形成技術− 【ポイント】 ・プラスチック基板上のめっき膜にパルス光を照射するだけで密着性が向上 ・マイクロ秒単位の短時間で大面積(A4サイズ)の処理が可能 ・フォトマスク上から光照射することで、めっきした金属薄膜のパターニングが可能 <概要> 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 野間口 有】(以下「産総研」という)ナノシステム研究部門【研究部門長 山口 智彦】ナノシステム計測グループ 堀内 伸 上級主任研究員らは、無電解めっきによりプラスチック基材上に形成した金属薄膜に高強度のパルス...
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レーザーテック、検査性能を大幅に向上させた高速マスク欠陥検査装置を発売
新製品 マスク欠陥検査装置 「MATRICS X810シリーズ」を発表 【概要】 レーザーテックはデザインノード20nm以降の最先端半導体デバイス用フォトマスク、およびEUVマスクに対応した高速マスク欠陥検査装置「MATRICS X810シリーズ」を製品化し、11月より受注を開始します。 【背景】 レーザーテックは、1976年よりフォトマスク欠陥検査装置を開発・販売し,本分野で長い歴史と経験を持つ会社です。現在販売中のMATRICS X700&X700HiTシリーズは、そのすぐれた欠陥検出性能、低ランニングコスト、および高い可用性により、高い評価をいただき、日本、韓国、台湾...
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青山学院大など、「究極の3Dテレビ」実現に向けたホログラム材料を開発
「究極の3Dテレビ」実現に向けたホログラム材料を開発 【ポイント】 ・究極の3D画像技術であるホログラフィーで動画を再生する材料開発は課題 ・リアルタイムに画像情報を記録・再生が可能なホログラム材料を世界で初めて開発 ・立体テレビ、光コンピューター用素子、エンターテインメントでの利用が期待 JST課題達成型基礎研究の一環として、青山学院大学理工学部化学・生命科学科の阿部二朗教授、石井寛人研究員らは、リアルタイムで物体の3次元情報を記録・再生することが可能な新しいホログラム材料の開発に成功しました。 ホログラフィー(注1)は空間に自然な3D画像を作り出せる技術で、クレジッ...
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レーザーテック、高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置を発表
新製品 高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置 CLIOS G821を発表 【概要】 この度レーザーテックは、スマートフォンやタブレット端末などの高精細液晶ディスプレイ生産用に特化した高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置 CLIOS(クリオス)G821を発表致します。 【内容】 レーザーテックは、第8世代用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置の業界標準機として既に定評のある51MDを大幅に進化させた高精細液晶用大型フォトマスクパターン欠陥検査装置CLIOS G821を製品化し、今月より受注を開始いたします。 スマートフォンに代表される高精細ディスプレイ...
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大日本印刷など、高硬度と透明性を実現する機能性フィルムのコーティング原料を開発
大日本印刷とDNPファインケミカル タッチパネル等の機能性フィルムのコーティング原料を開発 高硬度を実現しながらフィルムのカールを防ぐ、シリカ表面を化学修飾したシリカ分散液 大日本印刷株式会社(以下:DNP)と、その100%子会社で機能性材料の開発・販売を行う株式会社DNPファインケミカル(*1)は、フィルムが丸まってしまう現象(カール)を防ぐとともに、高硬度と透明性を実現するコーティング原料『FCNSシリーズ』を開発しました。 DNPファインケミカルが、本年10月に本製品の販売を開始します。 【開発の背景】 タッチパネルを保護するカバーフィルムやディスプレーの最表面に用...
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レーザーテック、Viaの底面形状や開口径を正確・迅速に測定する貫通電極検査装置を発表
新製品:貫通電極検査装置 (英文名:TSV Etching Depth and Profile Measurment System) 「WASAVI シリーズ TSV300S」を発表 【概要】 この度レーザーテック株式会社は、貫通電極形成プロセスのエッチング深さ、及びViaの底面形状を測定する「WASAVI シリーズ TSV300S」を発表致します。 ※WASAVI:WAfer Surface Analyzing and VIsualizing System 【説明】 現在、半導体デバイスのさらなる高密度、高速動作、低消費電力化を目指し、縦方向に回路を構築する3次元積層デバ...
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北海道大学、数ナノメートルの加工分解能を有する光リソグラフィー技術を開発
数ナノメートルの加工分解能を有する光リソグラフィ技術の開発に成功 <研究成果のポイント> ・ 髪の毛の細さの1000分の1倍程度の大きさの構造を,従来の技術よりも簡単な装置構成で,より精緻に加工できる技術を実現。 ・ 本技術は,従来の半導体加工向けの光リソグラフィで広く用いられているポジ型フォトレジストを使用可能。 ・ リフトオフやエッチングなどの既存の半導体加工プロセスと組み合わせることで,次世代太陽電池の集光システムへの応用や,種々のナノデバイスの作製に応用可能。 <研究成果の概要> 北海道大学電子科学研究所 上野貢生准教授及び三澤弘明教授らは,近赤外光を露光用光源と...
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Verigyの株主がアドバンテストの買収提案を承認 2011年6月20日・2011年6月19日 − 本日、株式会社アドバンテスト(以下、アドバンテスト)(東京証券取引所証券コード:6857、ニューヨーク証券取引所証券コード:ATE)とVerigy Ltd.(以下、Verigy)(NASDAQ証券コード:VRGY)は、2011年6月17日に開催されたVerigyの臨時株主総会でVerigyの株主が、アドバンテストの買収提案を承認したことを発表いたします。両社が2011年3月28日に締結したImplementation Agreement(以下、買収契約)に従ってアドバンテス...
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EUV露光計測装置の国内独占販売権を取得 キヤノンマーケティングジャパン株式会社(社長:川崎正己、以下キヤノンMJ)は、このほど米国EUV Technology社(社長:Rupert C.Perera)との間で、同社製のEUV露光計測装置の日本国内における独占販売契約を締結し、4月13日より販売を開始します。 *以下の製品画像は添付の関連資料を参照 ・EUVマスク全自動反射率計 ・EUVレジストアウトガスモニター 13.5ナノ(ナノは10億分の1)メートルという極めて短い波長領域の光を用いたEUV(Extreme Ultraviolet:極紫外線)露光は、回路線幅22...
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大日本印刷、次世代半導体量産技術の確立に向けナノインプリント用のテンプレート複製装置を導入
次世代半導体量産技術の確立に向けて 米モレキュラーインプリント社のナノインプリント用テンプレート複製装置を導入 商品画像:テンプレート複製装置「PERFECTA(TM)MR5000」 ※添付の関連資料を参照 大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円、以下:DNP)は、米国のモレキュラーインプリント(Molecular Imprints,Inc.本社:米国テキサス州 CEO:Mark Melliar−Smith 以下:MII)のナノインプリント用の型(テンプレート)のレプリカ(複製)を製造する装置「PERFECTA(TM)MR5000」を業界に先...
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旭硝子、TFT液晶ディスプレイ用大型フォトマスク石英基板を販売
高品質・低コストの合成石英材料で、液晶用大型フォトマスク基板市場に参入 AGC(旭硝子株式会社、本社:東京、社長:石村和彦)は、TFT(Thin Film Transistor)液晶ディスプレイ用大型フォトマスク石英基板の販売を開始します。この製品は、AGCが長年培った合成石英製造・加工技術の応用により、高品質であると同時に低コストでの生産が可能です。2011年よりAGCエレクトロニクス株式会社(本社:福島)で生産を開始し、2014年に30億円の販売を目指します。 TFT液晶ディスプレイパネルの製造工程の一部であるパターニング工程では、フォトマスクと呼ばれる、電子回路等の...