ギガフォトン、ＥＵＶ光源で磁場によるデブリ除去技術を実証

ＥＵＶ光源で磁場によるデブリ除去技術を実証

２０１２年出荷開始予定のＥＵＶ露光用ＬＰＰ光源の量産化計画が前進


　ギガフォトン株式会社（本社：　栃木県小山市、代表取締役社長：　渡辺裕司、　http://www.gigaphoton.com/　）は、２０１２年初旬に出荷を予定しているＥＵＶ露光用ＬＰＰ光源にて、同社の独自技術である磁場によるデブリ除去技術を実証したと発表しました。ギガフォトンは２００２年から、高出力と安定性・経済性を追求した独自技術によるＥＵＶ露光用ＬＰＰ光源の開発に取り組んでおり、磁場を使ったデブリ除去を初めとするユニークな方式を提案してきました。今回の発表は、これまで検証を積み重ねてきた磁場によるデブリ除去技術により、９２％以上のデブリを除去できることを製品レベルの装置で実証したものであり、ギガフォトンでは２０１２年初頭に予定されている製品出荷へ向けての大きな一歩と位置づけています。

　今回実証された磁場によるデブリ除去技術は、現在ＬＰＰ光源の高出力化と安定稼働に大きな障害となっている、デブリによるコレクタミラーへのすず（Ｓｎ）付着（デポジション）とミラー多層膜への損傷を、大幅に低減可能とするものであり、ギガフォトンでは本格的な量産向けＥＵＶ露光用ＬＰＰ光源における必須技術になるとしています。

　ＬＰＰ光源においては、Ｓｎターゲット（ドロップレット）に対し、炭酸ガスレーザを照射する事でＥＵＶ発光させますが、この際に発生するＳｎの微小粒（フラグメント）、Ｓｎ原子等がコレクタミラーに付着（デポジション）したり、Ｓｎイオンがコレクタミラー表面の多層膜を損傷する結果、その反射率が短時間で低下し、出力低下を引き起こすため、本格的な量産向け光源での課題となっています。

　ギガフォトンが提案する磁場によるデブリ除去技術は、固体レーザによるプリパルスと炭酸ガスレーザによるメインパルスの最適な組み合わせにより、Ｓｎフラグメント、中性Ｓｎ原子の発生を抑制し、ドロップレット中のＳｎをほぼ全てイオン化します。イオン化されたＳｎを、Ｓｎキャッチャーへ電磁力でガイドする事で除去し、コレクタミラーへのデポジションと損傷を最小限に抑えます。

　今回の実証実験では、直径２０μｍのドロップレットに、プリパルス固体レーザ光の照射後、メインパルスであるＣＯ２レーザを照射する事で、フラグメントは完全に消滅、Ｓｎドロップレットの９３％がイオン化し、ここに最適の磁場を加える事により、９９％以上のＳｎイオンがＳｎキャッチャーへガイドされる事を確認しています。これによりＥＵＶ多層膜へのＳｎイオンによる損傷を小さく抑えることが可能で、ＥＵＶ光源のランニングコスト低減のボトルネックであったミラーの再生使用にも見通しがついたとしています。

　レーザ照射によってイオン化せず残った７％のＳｎ原子は、コレクタミラーへゆっくりデポジションする可能性がありますが、ギガフォトンではエッチングガスを使ったコレクタミラーの常時クリーニング技術により十分除去可能としています。

　波長１９３ｎｍのＡｒＦレーザを使った液浸露光装置によるダブルパターン露光が微細化の限界に達しつつある中、波長が１３．５ｎｍと短いＥＵＶ光源は、今後数世代にわたってムーアの法則を維持していくことのできる次世代露光技術ソリューションと考えられています。ＥＵＶ露光装置導入を実現するにあたって、要素技術の中でも特に光源の安定稼働が主要な課題とされており、その技術成果に注目が集まっています。

　ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司はこうコメントしています。「当社のユニークな独自技術が製品レベルの装置で実証された事で、低ランニングコストで安定的に稼働するＬＰＰ光源が実現可能である事が確認されました。これにより次世代露光技術としてのＥＵＶ露光装置導入の機運を一層高めるものと期待しています。ギガフォトンは市場からの２０１２年初頭出荷への要請に応えるため、初期量産に対応する工場の稼動を既に開始しており、ＥＵＶビジネスの準備を着々と進めています」


　ギガフォトン株式会社（　http://www.gigaphoton.com　）は２０００年の設立以来、世界トップクラスの露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場、欧米市場の大手半導体メーカー各社に製品が採用されています。ギガフォトンの革新的な独自技術「ＬＰＰ　ＥＵＶ」ソリューションは、次世代デバイスの量産での低コスト化、高生産化を実現する新たなリソグラフィ技術として、世界中の半導体メーカーから高い注目を集めています。ギガフォトンは、世界一のリソグラフィ光源メーカーを目指し、研究開発から製造・顧客サポートに至るすべての分野で常に顧客の要求に最優先で取り組んでいます。

　社名、ロゴは、株式会社ギガフォトンの商標です。記載内容は予告なしに変更される場合があります。ギガフォトンは、プレスリリースの記載内容が将来の諸事由で変更された場合、内容の更新または訂正発表する責任を持ちません。（ｃ）２０１１　ギガフォトン


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