リニアテクノロジー、デュアル理想ダイオードとＨｏｔ　Ｓｗａｐコントローラ搭載の「ＬＴＣ４２２７」など販売

リニアテクノロジー、新製品「ＬＴＣ４２２７／ＬＴＣ４２２５」を販売開始

消費電力とボードスペースを節減する、デュアル理想ダイオード＆Ｈｏｔ　Ｓｗａｐコントローラ


　高性能アナログＩＣのリーディングカンパニーであるリニアテクノロジーは、２．９Ｖ〜１８Ｖで動作し冗長電源にＰｏｗｅｒＰａｔｈ（ＴＭ）と突入電流制御を提供する、小型でデュアル理想ダイオードとＨｏｔ　Ｓｗａｐ（ＴＭ）コントローラを搭載した「ＬＴＣ４２２７／ＬＴＣ４２２５」の販売を開始しました。ＬＴＣ４２２７とＬＴＣ４２２５　には、フォールト後にラッチオフするＬＴＣ４２２ｘ−１と、フォールト後に自動リトライを行うＬＴＣ４２２ｘ−２の２つのバージョンがあります。コマーシャル・グレードは動作温度範囲が０℃〜７０℃、インダストリアル・グレードは−４０℃〜８５℃で規定されています。ＬＴＣ４２２７は２０ピン４ｍｍ　ｘ　５ｍｍ　ＱＦＮパッケージまたは１６ピンＳＳＯＰパッケージで、ＬＴＣ４２２５は２４ピン４ｍｍ　ｘ　５ｍｍ　ＱＦＮ　またはＳＳＯＰパッケージで供給されます。１，０００個時の参考単価はどちらも３４１円（税込み）からで、リニアテクノロジー国内販売代理店各社経由で販売されます。製品の詳細情報は　http://www.linear-tech.co.jp　をご覧ください。

　ＬＴＣ４２２７は２個の外付けＮチャネルＭＯＳＦＥＴの順方向電圧降下を制御して、ダイオードＯＲアプリケーションで電源間のスムースな電流の移行を可能にします。この理想ダイオードは、２個の高電力ショットキー・ダイオードと付随するヒートシンクを置き換え、負荷への低損失経路を提供し、スペースを節減します。その下流に位置するＨｏｔ　ＳｗａｐコントローラのＭＯＳＦＥＴは、活線挿抜時にボードとバックプレーンの損傷を防止し、高速に作動する電流制限と回路ブレーカによって短絡フォールトから保護します。専用のＤ２ＯＮ＃ピンにより、優先度の低い電源の理想ダイオードをオフにする２つの電源の優先順位付けが可能です。ＬＴＣ４２２７は、冗長電源のＯＲ接続に加えて、急落した電源電圧を負荷から遮断する電源ホールドアップ・アプリケーションにおいても、優れたダイオードの代替デバイスです。

　ＬＴＣ４２２５は、２つの電源レール用に理想ダイオードとＨｏｔ　Ｓｗａｐで構成される独立した２つの経路を提供します。　ＬＴＣ４２２７と同様の多くの機能を備えていますが、電源プライオリタイザとして構成可能なので、ＭｉｃｒｏＴＣＡ　システムにも適しており、１２Ｖのパワーモジュールの出力を使用して複数の先進のメザニンカードに電力を供給することができます。

　ＬＴＣ４２２７／ＬＴＣ４２２５の主な特長：
　　●ＬＴＣ４２２７：デュアル理想ダイオード＋シングルＨｏｔ　Ｓｗａｐ（ＴＭ）　コントローラ
　　●ＬＴＣ４２２５：デュアルの理想ダイオード＋Ｈｏｔ　Ｓｗａｐコントローラ　
　　●冗長電源用のＰｏｗｅｒＰａｔｈ（ＴＭ）と突入電流の制御　
　　●パワー・ショットキー・ダイオードに代わる低損失デバイス　
　　●動作電圧範囲：２．９Ｖ〜１８Ｖ　
　　●ＮチャネルＭＯＳＦＥＴを制御　
　　●１μｓ以内でピーク・フォールト電流を制限　
　　●ターンオンおよび逆ターンオフ時間：０．５μｓ　
　　●回路ブレーカで調整可能な電流制限　
　　●発振のないスムースな切り替え　
　　●電流制限フォールトの遅延を調整可能　
　　●フォールトおよびパワー状態出力　
　　●ラッチオフまたは自動リトライ・バージョン


リニアテクノロジーについて
　Ｓ＆Ｐ　５００の一員であるリニアテクノロジーは、過去３０年にわたり広範囲に渡る高性能アナログＩＣの設計・製造及びマーケティング活動を行い、世界中の多くの企業に提供しています。リニアテクノロジーの半導体は、私たちのアナログ世界と「通信」、「ネットワーキング」、「産業」、「自動車」、「コンピュータ」、「医療」、「精密機器」、「民生」さらには「軍需航空宇宙」システムで幅広く使用されている、デジタル・エレクトロニクスとの架け橋の役目を担っています。リニアテクノロジーは、パワーマネージメント、データ変換、信号調整、ＲＦ、インタフェース、μＭｏｄｕｌｅサブシステムを設計・製造しています。

　ＬＴ，　ＬＴＣ，　ＬＴＭ，　μＭｏｄｕｌｅ　及び会社ロゴはＬｉｎｅａｒ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎの登録商標です。その他の登録商標・商標は、それぞれの所有者にその権利が帰属します。記載内容は予告なしに変更される場合があります。


お問い合わせ先
　〒１０２−００９４　東京都千代田区紀尾井町３−６　紀尾井町パークビル８Ｆ
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以上


　※　商品画像は、関連資料参照