信越化学、台湾にフォトレジスト関連製品の新工場を建設

信越化学、台湾にフォトレジスト関連製品の新工場を建設、リスク分散を実現


　信越化学工業株式会社（本社：東京、社長：森俊三）は、フォトレジスト関連事業の拡大をめざし、台湾に工場を新設する。現在、台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は１年程度、投資金額は約１３０億円を見込む。

　フォトレジストは、半導体デバイスの製造に欠かせない感光性の樹脂。シリコンウエハーにレーザー光などの光を照射し、集積回路を焼き付ける露光工程で使われる。
　信越化学は、１９９１年に新規事業を創出する目的で金川千尋会長（当時は社長）を委員長とする「Z委員会」を設置。同委員会のテーマの一つとして、フォトレジストの研究開発に取り組んだ。
　
　当時、露光工程では主にg線やi線など高圧水銀ランプが光源として使われていた。次世代の微細化に向けては、新たな光源としてKrFエキシマレーザーが注目されていた。フォトレジスト業界に最後発で参入した信越化学は、当初から難度の高いKrFエキシマレーザーに適したフォトレジストの開発に取り組んだ。長年培ってきた合成技術を生かし、顧客の求める高感度の製品の開発に成功。１９９７年に直江津工場（新潟県）で生産を開始した。
　信越化学はさらに、市場が拡大しているArFエキシマレーザー用のフォトレジストや、回路パターンの寸法精度を向上させる多層レジスト材料を開発。最先端のフォトレジスト関連製品を顧客に提供することで、事業を成長させてきている。

　フォトレジスト関連製品の需要は、半導体デバイスの生産量の増加や微細化の進展により、アジアとアメリカで伸びている。信越化学は、需要地の一つである台湾で生産を行うことで、フォトレジストの需要の伸びを着実にとらえていく。また、従来の直江津工場と併せフォトレジスト関連事業で２つの生産拠点を持つことでリスクの分散を実現し、事業の更なる強化を進めていく。


以　上