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三菱レイヨングループなど、省エネ・省薬品に貢献する純水装置を2タイプ開発

2013-05-24

省エネ/省薬品に貢献する新型純水装置を2 タイプ開発
三浦工業・日本錬水共同開発第1 弾


三菱レイヨン株式会社(本社:東京都千代田区、社長:越智仁)のグループ会社である日本錬水株式会社(本社:東京都千代田区社長:町田真哉、以下「日本錬水」)と三浦工業株式会社(本社:愛媛県松山市社長:高橋祐二(*)、以下「三浦工業」)は、この度、2 種類の純水装置を共同開発し、順次販売を開始いたします。


 *印の社長名の正式表示は添付の関連資料を参照


●イオン交換式純水装置
【開発背景】
 イオン交換式純水装置は、初期導入コストを重視した純水製造システムで普及しております。イオン交換式純水装置ではイオン交換樹脂の定期的な薬品再生が必要になり、再生効率の向上・再生時間の短縮化が、環境負荷・維持管理費の低減、安定供給に繋がります。
 現在、日本錬水と三浦工業では環境負荷・維持管理費の低減、安定供給を追及した新型イオン交換式純水装置を開発中です。定格処理水量3 m3/h、5 m3/h の2 機種を年度内に販売開始する予定です。

【特長】
(1)短時間再生
 カチオン塔とアニオン塔を同時再生することにより再生時間を約30%短縮注1できます。
(2)再生薬品の使用量低減
 向流再生方式を採用することにより薬品使用量を約30%低減注1できます。
 注1:当社混床式純水装置比
(3)再生剤流量カウント
 計量槽不要で再生剤をダイレクト供給します。流量カウントで確実再生を実現します。
(4)日常管理の省力化
 カラータッチパネルを採用。タッチパネルにお客様の操作を集約することにより日常運転管理を容易にしました。
(5)クリーン純水の供給
 初期ブロー機能により、通水開始時から清浄度の高い純水を供給できます。


【販売対象】
 各種工場・施設の各種洗浄用水、プロセス用水、原料水としてご使用いただけます。

【販売目標台数】
 50 台/年

●純水ユニット
【開発背景】
 純水は、製薬・化粧品の原料水、精密機器・電子部品の洗浄水などの用途を中心に幅広く市場展開されており、純水製造システムには、安定水質・安定水量・節水・省エネ・環境負荷低減・維持管理費等、より高いレベルが要求されています。
 今回販売を開始する純水ユニットは、これらの要求に応えるとともに、RO 装置と電気再生式純水装置(EDI)をワンユニットにパッケージ化したことで、設置スペースの低減、導入時の工期短縮も図れます。
 2013 年8 月より定格処理水量1 、2m3/h の販売を開始し、順次3、4m3/h をラインナップに追加します。

【特長】
(1)エコ運転制御
 ○フィードバック定流量制御<省エネ>
  インバータ制御により、水温による影響を受けることなく一定水量を安定供給できるため、給水加温が不要です。
 ○RO 自動回収率切替制御<省水>
  RO 回収率を水温に応じて自動制御することで、年間トータル排水量が大幅に削減できます。
 ○処理水量の切替運転<省エネ>
  稼動負荷に応じて処理水量を多段階に切替え、RO ポンプの消費電力を削減します。
 ○ポンプの省エネ運転<省エネ>
  運転工程毎に、RO 加圧ポンプ・脱炭酸用真空ポンプを最適な運転方法に切替えま
す。

(2)日常管理の省力化、外部水質計の一元管理
 カラータッチパネルを採用。タッチパネルにお客様の操作を集約することにより日常運転管理を容易にしました。
 ユニットの処理水配管に設けた水質計(別売り)の測定値をユニット用タッチパネルに表示することが可能です。
 製薬業界で、電気伝導率・TOC(全有機炭素)などの水質管理を要求される場合、ユニット内部の運転データとともにタッチパネルによる運転データの一元管理が可能になります。

(3)クリーン純水の供給<安定水質>
 フラッシング注2/内部循環・初期ブロー注3機能により、通水開始時から清浄度の高い純水を供給できます。
  注2:定期的にユニット内部の水を外部へ排出します。
  注3:通水開始時、一定水質に達するまで循環運転を行います。

(4)省スペース
 純水製造に必要な主要機器をパッケージ化することで約40%の設置スペース低減注4が図れます。
  注4:当社機器単体システム構成との比較

(5)オンラインメンテナンス○R 対応
 通信による遠隔監視と充実したメンテナンスサービスをご提供します。

(6)拡張性
 使用条件(原水水質・運転条件等)に応じて搭載機器を最適化できます。


 ※参考画像と「要目表」は添付の関連資料を参照


【販売対象】
 製薬・化粧品など、各種工場における製造用水・洗浄用水としてご使用いただけます。

【販売目標台数】
 50 台/年

内容は発表時のものです。
装置の仕様変更等により、異なる場合がありますのでご了承ください。


以上

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