キヤノン、画像センサーなどの量産に最適なＫｒＦスキャナー「ＦＰＡ−６３００ＥＳ６ａ」を発売

メモリー、ロジック系半導体、画像デバイスの量産に最適
ＫｒＦスキャナー“ＦＰＡ−６３００ＥＳ６ａ”を発売



　＊製品画像は添付の関連資料を参照

　パソコン、スマートフォン（高機能携帯電話）などさまざまな電子機器の需要拡大に伴い、それらに使用される半導体の需要も拡大しており、半導体製造装置には高い生産性（処理能力）・精度・信頼性および稼働率が求められています。
　キヤノンはこのたび、これらの要求を満たした、ＤＲＡＭやフラッシュメモリーなどのメモリー、パソコンのＭＰＵなどのロジック系半導体、カラーフィルターなどの画像センサーや画像処理デバイスの量産に最適な半導体露光装置“ＦＰＡ−６３００ＥＳ６ａ”を発売します。新製品は、レチクルステージとウエハーステージを同時に動かしながら回路図を露光するＫｒＦスキャナーです。従来の「ＦＰＡ−６０００」シリーズで培った技術を活用し、高い生産性と業界最高水準の重ね合わせ精度を実現することで、ＣｏＯ（Ｃｏｓｔ　ｏｆ　Ｏｗｎｅｒｓｈｉｐ）低減を求める半導体メーカーの高いニーズに対応します。


■１時間あたり２００枚以上（※２）の高い生産性
　新型レチクルステージおよびウエハーステージを採用し、露光処理を高速化することで、露光処理時間を大幅に短縮しています。さらに、アライメント（位置決め）シーケンスの改良や、ウエハー搬送時間なども短縮することで、１時間あたりのウエハー露光枚数を２００枚以上と、従来機種（※３）に比べ約１．６倍の高い生産性（処理能力）を達成しています。


■業界最高水準の重ね合わせ精度５ｎｍ（※４）を実現
　露光する回路を重ね合わせた時のズレ・歪みを抑えるため、ステージの振動を制御する高度な制振技術やステージ同期制御技術を採用するとともに、ウエハーを正確にアライメント（位置決め）するためのアライメントスコープを改良しています。さらに露光エリアやレチクルエリアの精緻な温度管理技術を採用することで、業界最高水準の重ね合わせ精度５ｎｍを実現しています。


※１　露光波長が２４８ｎｍ、希ガスのクリプトン（Ｋｒ）ガスとハロゲンガスのフッ素（Ｆ）ガスを混合して発生させるレーザー光。１ｎｍ（ナノメートル）は１０億分の１メートル。
※２　３００ｍｍウエハー　９８ショット、オプション適用時。
※３　ＦＰＡ−６０００ＥＳ６ａ（２００５年発売）。
※４　オプション適用時。２０１２年３月３０日現在、ＫｒＦスキャナーにおいて。（キヤノン調べ）



＊以下、リリースの詳細は添付の関連資料を参照



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　キヤノン株式会社　光学機器事業本部
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